和露の英語

雰囲気中の過酸化水素に対する試験サンプルの露呈量を測定する方法は、基質を雰囲気中に入れ、基質を過酸化水素と接触させ、過酸化水素を染料中間体と反応させて雰囲気中の過酸化水素の総和露呈量を示す発色団を生成し、そして発色団を雰囲気中の過酸化水素の総和露呈量と相関させることを含んでなる。例文帳に追加

This method for determining exposure of a test sample to hydrogen peroxide in an atmosphere includes placing a substrate into the atmosphere, contacting the substrate with the hydrogen peroxide, reacting the hydrogen peroxide with a dye intermediate to produce a chromosphore indicative of the integrated exposure of hydrogen peroxide in the atmosphere; and correlating the chromophore to the integrated exposure of hydrogen peroxide in the atmosphere. - 特許庁

本発明の課題は、過酸化水素の存在、そしてより好ましくは過酸化水素に対する総和露呈量、を迅速に且つ容易に測定するための方法および装置を提供することである。例文帳に追加

To provide a method and a device for rapidly and easily measuring the presence of hydrogen peroxide, preferably the integrated exposure of the hydrogen peroxide. - 特許庁

回折光Ｌ１の露光量が、飽和露光量Ｅsat に達した後、かつ、回折光Ｌ−１やＬ２の露光量が、臨界露光量Ｅcri を超える前に、再生用照明光Ｌの照射を終了する。例文帳に追加

After the exposure amount of the diffraction light L1 reaches the saturation exposure amount Esat and before the exposure amounts of the diffraction lights L-1 and L2 exceed the critical exposure amount Ecri, the radiation of the reproducing illumination light L is finished. - 特許庁

いずれの色の画素２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂについても、カラーフィルタ１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂを有しない場合におけるフォトダイオードＰＤの飽和露光量に対するフォトダイオードＰＤの飽和蓄積電荷量の比率が、互いに実質的に同一である。例文帳に追加

With respect to the pixels 20R, 20G, and 20B of any colors, ratio of saturated charge storage amount of the photodiode PD against saturation equivalent exposure of the photodiode PD when they do not have the color filters 18G, 18R, and 18B is virtually identical. - 特許庁

固体撮像装置は、半導体基板と、前記半導体基板に形成された複数の画素であって、各画素が電気的に分離された第１の光電変換素子と第２の光電変換素子とを含む複数の画素と、前記半導体基板上方に形成され、各画素の上方に１つの開口を有する遮光膜と、を有し、第１の光電変換素子と第２の光電変換素子とは飽和露光量が異なる。例文帳に追加

The solid-state imaging apparatus includes: a semiconductor substrate; a plurality of pixels formed on the semiconductor substrate and each including first and second photoelectric conversion elements which are electrically isolated; and a light shield film having one opening above each pixel, and the saturation exposure amount of the first photoelectric conversion element differs from that of the second photoelectric conversion element. - 特許庁

マイクロレンズを形成する際の露光波長では解像しない微細なパターンの分布状態により露光する際の透過光量分布を制御するフォトマスクを用いたマイクロレンズの形成方法において使用する、固体撮像素子レンズ用感光性樹脂組成物であって、 残膜率飽和露光量を前記フォトマスクを介して感光性樹脂組成物に照射、現像した時のマスク開口率と残膜率の関係において、マスク開口率が２０％から８０％の範囲で最小２乗法により直線近似した時のＲ^2が０．９５０〜１．０００の範囲であることを特徴とする固体撮像素子レンズ用感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The relation between the aperture ratio of the mask and the film remaining rate when the photosensitive resin composition is irradiated through the photomask with light in the saturation exposure light quantity of the film remaining rate shows that R^2 in linear approximation by a least squares method ranges from 0.950 to 1.000 in a range of 20% to 80% of the mask aperture ratio. - 特許庁