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拡散相の英語
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英訳・英語 diffusive phase
「拡散相」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 1279件
異種金属の液相拡散接合例文帳に追加
液相拡散接合用の合金例文帳に追加
ALLOY FOR LIQUID-PHASE DIFFUSION BONDING - 特許庁
液相拡散接合用鋼例文帳に追加
STEEL FOR LIQUID PHASE DIFFUSION WELDING - 特許庁
液相拡散接合用合金例文帳に追加
ALLOY FOR LIQUID-PHASE DIFFUSION BONDING - 特許庁
スペクトラム拡散符号相関器例文帳に追加
SPREAD SPECTRUM CODE CORRELATOR - 特許庁
液相拡散接合方法例文帳に追加
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「拡散相」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 1279件
スペクトル拡散通信用相関器例文帳に追加
部分逆拡散部は、複数の拡散率のうち最短の拡散率に等しい長さを有する固定の部分拡散率の参照符号に基づいてスペクトル拡散信号を能動相関処理により逆拡散する。例文帳に追加
The partial inverse spread processing section employs the active correlation processing to apply inverse spread processing to a spread spectrum signal based on a reference code of a fixed partial spread rate with a length equal to that of a shortest spread rate among a plurality of spread rates. - 特許庁
液相拡散接合鋼部品および鋼部材の液相拡散接合方法例文帳に追加
LIQUID PHASE DIFFUSION-JOINED STEEL COMPONENT, AND LIQUID PHASE DIFFUSION JOINING METHOD FOR STEEL MEMBER - 特許庁
異種金属薄板の液相拡散接合方法及び液相拡散接合装置例文帳に追加
METHOD AND APPARATUS FOR LIQUID PHASE DIFFUSION BONDING OF DISSIMILAR METAL SHEET - 特許庁
液相拡散接合部品の疲労特性向上方法および液相拡散接合部品例文帳に追加
METHOD FOR IMPROVING FATIGUE PROPERTY OF COMPONENT FORMED BY LIQUID PHASE DIFFUSION JOINING AND COMPONENT FORMED BY LIQUID PHASE DIFFUSION JOINING - 特許庁
逆拡散部41では、周波数オフセットサーチステップに対応させて符号要素の位相をそれぞれ変化させた複数の逆拡散のための拡散符号を順次生成すると共に、複数の拡散符号の各々で受信されたスペクトル拡散信号を逆拡散処理して逆拡散結果を得る。例文帳に追加
An inverse spread section 41 sequentially generates a spread code for a plurality of inverse spread processes, where phases of code elements are respectively changed, corresponding to the frequency offset search step and applies inverse spread processing to the spread spectrum signal received by each of a plurality of the spread codes to obtain a result of inverse spread. - 特許庁
逆拡散器2は、受信ベースバンド信号に対する所定の拡散符号を用いた逆拡散(相関値算出)処理を行う。例文帳に追加
An inverse spread unit 2 applies inverse spread (correlation value calculation) processing to the received baseband signal by using a prescribed spread code. - 特許庁
拡散炉には縦型拡散炉を用い、気相拡散は半導体基板を1150℃以上の温度として行う。例文帳に追加
A vertical-type diffusion furnace is used as a diffusion furnace, and vapor-phase diffusion is performed while the semiconductor substrate is heated at 1,150°C or higher. - 特許庁
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diffusive phase
英和専門語辞典
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