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絶縁誘導体の英語
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「絶縁誘導体」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 66件
ポリキノリン樹脂誘導体を用いた絶縁膜樹脂組成物並びに半導体装置例文帳に追加
INSULATING FILM RESIN COMPOSITION AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING POLYQUINOLINE RESIN DERIVATIVE - 特許庁
トリプチセン誘導体の重合体を含有する組成物、それを用いた絶縁膜、及び電子デバイス例文帳に追加
COMPOSITION CONTAINING POLYMER OF TRIPTYCENE DERIVATIVE, INSULATED FILM USING THE SAME AND ELECTRONIC DEVICE - 特許庁
糖類またはその誘導体を含有する多孔性層間絶縁膜を形成するための組成物例文帳に追加
CONSTITUENT FOR FORMING POROUS INTERLAYER DIELECTRIC CONTAINING SACCHARIDE AND DERIVATIVE THEREOF - 特許庁
アミノ基含有アダマンタン誘導体とその製造方法、絶縁膜形成材料、ポリマー及び絶縁膜例文帳に追加
AMINO GROUP-CONTAINING ADAMANTANE DERIVATIVE, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, INSULATION FILM-FORMING MATERIAL, POLYMER AND INSULATION FILM - 特許庁
本発明に係る第1の消弧用絶縁成型物は、回路遮断器の接触子対周辺に配置する消弧用絶縁成型物であって、ピリミジン、ピリミジン誘導体、プリン、プリン誘導体、テトラゾール、およびテトラゾール誘導体からなる群より選ばれる1種以上の化合物を含むことを特徴とする。例文帳に追加
A first insulated molding for arc-extinguishing is arranged in the vicinity of a pair of contactors of the circuit breaker and contains one kind or more selected from a group composed of pyrimidine, pyrimidine derivatives, purine, purine derivatives, tetrazole and tetrazole derivatives. - 特許庁
多孔質の絶縁体であって、前記絶縁体は内部空孔表面がナフトキノンジアジド誘導体を少なくとも含む感光性組成物が被覆されてなることを特徴とする複合部材製造用の絶縁体である。例文帳に追加
The insulator for producing composite has a porous insulator, of which the surfaces of the internal cavities are coated with a photosensitive composition, containing at least naphthoquinone diazide derivatives. - 特許庁
絶縁性ポリマーとしては、ヒドロキシエチルセルロースあるいはヒドロキシプロピルセルロースなどの水溶性セルロース誘導体を含んでいる。例文帳に追加
The insulating polymer includes a water-soluble cellulose derivative such as hydroxyethyl cellulose or hydroxypropyl cellulose. - 特許庁
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「絶縁誘導体」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 66件
ジチエノベンゾジチオフェン誘導体からなる有機半導体材料前駆体、インク、絶縁部材、電荷輸送性部材、有機電子デバイス例文帳に追加
ORGANIC SEMICONDUCTOR MATERIAL PRECURSOR MADE OF DITHIENOBENZODITHIOPHENE DERIVATIVE, INK, INSULATION MEMBER, CHARGE TRANSPORT MEMBER, AND ORGANIC ELECTRONIC DEVICE - 特許庁
トリミング素子Tの斜め上方領域の層間絶縁膜3a上にクラック誘導体Gを形成する。例文帳に追加
A crack inducing body G is formed on the interlayer insulation film 3a in a region obliquely over the trimming element T. - 特許庁
金属−絶縁物−金属(MIM)キャパシタの製造方法で、支持基板たとえば層間誘導体層ILD上に銅バリア/銅シード層4を堆積し、この銅バリア/銅シード層4上に誘導体8を形成し、この誘導体8上に金属層9を形成する。例文帳に追加
Copper barrier/copper seed layers 4 are deposited on a support substrate, for example, an interlayer derivative layer ILD by the metal-insulator- metal(MIM) capacitor manufacturing method, a derivative 8 is formed on the copper barrier/copper seed layers 4, and a metal layer 9 is formed on the derivative 8. - 特許庁
酸化セリウム粒子、分散剤、ポリカルボン酸またはその誘導体またはその共重合体、ポリスルホン酸またはその誘導体またはその共重合体、ならびに水を含む半導体絶縁膜用CMP研磨剤。例文帳に追加
A CMP abrasive for a semiconductor insulating film contains a cerium oxide particle, a disperser, polycarboxylic acid or its derivative or its copolymer, polysulfonic acid or its derivative or its copolymer, and water. - 特許庁
半導体基板の上に、ポリアリールエーテルの誘導体又はポリパラキシレンの誘導体などからなる有機成分を主成分とする層間絶縁膜を堆積する。例文帳に追加
An interlayer insulation film which is made mainly of organic constituent such as polyaryl ether derivative or polyparaxylene or the like, is piled up on a semiconductor substrate. - 特許庁
絶縁体組成物は、有機半導体装置が備える絶縁部の形成に用いられるものであり、置換基に有機基を有し、特定の構造を有するポリシルセスキオキサン誘導体を含有することを特徴とする。例文帳に追加
The insulator composition is used for forming the insulating section which the organic semiconductor device has, has an organic group as a substituting group, and contains a polysilsesquioxane derivative having a specific structure. - 特許庁
高い架橋度を有するポリベンズアゾール類を構成でき、特に層間絶縁膜用途として必要とされる膜厚を容易に形成しうる絶縁膜形成材料として有用な新規な芳香族ポリアミン誘導体を提供する。例文帳に追加
To provide new aromatic polyamine derivatives which can constitute polybenzazoles having a high degree of crosslinking and are useful as insulation film-forming materials particularly capable of easily forming a film thickness necessary for the use of interlaminar insulation films. - 特許庁
高い架橋度を有するポリベンズアゾール類を構成でき、特に層間絶縁膜用途として必要とされる膜厚を容易に形成しうる絶縁膜形成材料として有用な新規なアダマンタントリカルボン酸誘導体を提供する。例文帳に追加
To obtain a new adamantane tricarboxylic acid derivative capable of forming highly crosslinked polybenzazole polymers which are useful as insulating film-forming materials capable of easily forming film thicknesses especially required for interlayer insulating film uses. - 特許庁
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