耐性限界の英語

敏感肌又は不耐性皮膚の許容限界を増加させ、また敏感肌又は不耐性皮膚に関連した知覚的微候を低減又は除去すること。例文帳に追加

To increase the tolerance limit of sensitive skin or nonresistive skin and decrease or eliminate the perceptual symptom relating to sensitive or nonresistive skin. - 特許庁

限界解像力、現像欠陥、リニアリティ及びドライエッチング耐性の４点で良化したポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a positive type photoresist composition having improved marginal resolving power, development defects, linearity and dry etching resistance. - 特許庁

敏感肌又は不耐性皮膚の許容限界を増大させるための少なくとも一のキレート剤を含む組成物の使用例文帳に追加

USE OF COMPOSITION CONTAINING AT LEAST ONE CHELATING AGENT FOR INCREASING TOLERANCE THRESHOLD OF SENSITIVE SKIN OR INTOLERANT SKIN - 特許庁

疲労限界部品のためのコーティング方法およびその方法によって形成された、亀裂耐性が向上された部品を提供する。例文帳に追加

To provide a coating process for fatigue critical components, and to provide components which is formed by the process and has improved crack resistance. - 特許庁

基板間距離が光伝送路の屈曲耐性限界を下回る（屈曲耐性を維持できない）距離であっても、この距離内に光伝送路を収容し、収容スペースの狭スペース化を実現する。例文帳に追加

To achieve a narrow housing space by housing an optical transmission path within a distance between boards even when the distance is shorter than the bending endurable limit (bending resistance is not kept) of the optical transmission path. - 特許庁

マイグレーション耐性の向上したビアを持つ集積回路装置、及びリソグラフィー技術の限界以上に微細化した配線構造を持つ集積回路装置の提供。例文帳に追加

To provide an integrated circuit having vias improved in migration resistance and an integrated circuit having a microminiaturized wiring structure exceeding the limit of the lithography technology. - 特許庁

ＡｒＦレーザー光を利用でき、ＡｒＦレジストパターン等上に塗布等するだけで、そのサイズ依存性なく厚肉化可能で、エッチング耐性に優れ、露光限界を超えて微細なレジスト抜きパターン等を低コストで簡便に形成可能なレジストパターン厚肉化材料等の提供。例文帳に追加

To provide a resist pattern thickening material, which can utilize ArF laser light, which can thicken a resist pattern regardless of the size by only applying the material on the ArF resist pattern or the like, which is excellent in etching durability and capable of easily and inexpensively forming a fine resist space pattern or the like exceeding an exposure limit. - 特許庁