膜電場の英語

積極的に被処理基板表面の電場状態を制御することで、目的とするめっき膜厚の面内分布が得られる電解処理装置及びその電場状態制御方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an electrolytic treating device which makes it possible to obtain the in-surface distribution of a desired plating film thickness by positively controlling the electric field state of the surface of a substrate to be treated and an electric field state control method for the same. - 特許庁

電場増強領域５２は導波膜２３によって電極２８ａ，２８ｂの間の領域にも存在する。例文帳に追加

An electric field intensification area 52 exists in an area between the electrodes 28a and 28b by a waveguide film 23. - 特許庁

研磨液に電場を印加しながら研磨を行うことを特徴とする半導体基板上の金属膜の研磨方法及びその研磨装置。例文帳に追加

In the method and device for polishing the metal film on a semiconductor substrate, polishing is made while an electric field is being applied to polishing liquid. - 特許庁

光電変換膜、光電変換素子、及び撮像素子、並びに、これらに電場を印加する方法、及び印加した素子例文帳に追加

PHOTOELECTRIC CONVERSION FILM, PHOTOELECTRIC CONVERSION ELEMENT AND IMAGING ELEMENT, AND METHOD OF APPLYING ELECTRIC FIELD TO THEM, AND APPLIED ELEMENT - 特許庁

流体が異方性液体である時、高分子膜２ａは、さらに、電場コントロールによる反射式表示モジュールに応用される。例文帳に追加

When the fluid is anisotropic liquid, the polymer membrane 2a is further applicable to a reflection type display module by electric field control. - 特許庁

強誘電体薄膜の自発分極電場が隣接する基板に作用して、電気光学効果により基板の屈折率が変化する。例文帳に追加

The spontaneous polarization electric field of the ferroelectric thin films 2 acts on the adjacent substrate and the refractive index of the substrate is changed by the electro-optic effect. - 特許庁

膜を蒸着するべく反応領域にプラズマ放電を生成するために低及び高周波RF電力を使って電場が生成される。例文帳に追加

An electric field is generated using low- and high-frequency RF power in order to generate plasma discharge in the reaction region for film vapor deposition. - 特許庁

本発明の圧電体素子の製造方法は、圧電体薄膜４０３に自発分極を生じさせたい方向と平行な方向に電場を印加して前記圧電体薄膜の前駆体膜を結晶化させるものである。例文帳に追加

In a method for manufacturing piezoelectric element, the precursor film of a thin piezoelectric film 403 is crystallized by applying an electric field upon the film 403 in the direction parallel to the direction in which spontaneous polarization is to be caused in the film 403. - 特許庁