薄膜モニタの英語

ＣＶＤ装置による薄膜成膜時に、in-situで膜厚をモニタリングできる膜厚モニタリング方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for monitoring a film thickness in-situ, while forming a thin film with a CVD apparatus. - 特許庁

半導体薄膜の移動度をインプロセスでも高い精度でモニタリングすること。例文帳に追加

To monitor the mobility of a semiconductor thin film with high accuracy even in the case of inprocess. - 特許庁

試験を行なう半導体装置を実装する基板に薄膜層を形成し、この薄膜層に複数の温度モニタ回路を設け、この温度モニタ回路からの信号によって半導体装置の発熱分布を得る。例文帳に追加

A thin film layer is formed on a substrate to be mounted with a semiconductor device to be tested, and a plurality of temperature monitoring circuits are provided on this thin film layer to obtain the heat generation distribution of the device by signals from these circuits. - 特許庁

この膜厚測定装置Ｓは、複数のモニタ基板８を備えるモニタ基板保持手段６と、モニタ基板８を部分的に遮蔽するマスク９と、モニタ基板に成膜された薄膜の膜厚を測定するための投光手段１０、受光手段１０と、を備える。例文帳に追加

The film-thickness measuring apparatus S is provided with a monitoring-board holding means 6 which is provided with the plurality of monitoring boards 8, masks 9 which shield the monitoring boards 8 partially, a projection means 10 which is used to measure the thin films formed on the monitoring boards 8, and a light receiving means 10. - 特許庁

水素原子検出装置及び方法、薄膜デバイス製造装置及び方法並びに水素原子モニタリング方法例文帳に追加

HYDROGEN ATOM DETECTING APPARATUS AND METHOD, MEMBRANE DEVICE MANUFACTURING EQUIPMENT AND METHOD, AND HYDROGEN ATOM MONITORING METHOD - 特許庁

この検量線と窒化ケイ素薄膜７による赤外線の吸収率とから、データ解析処理システム５を用いて膜厚をモニターすることができる。例文帳に追加

Film thickness can be monitored from the working curve and the infrared absorption of the silicon nitride thin film 7 using a data analyzing/processing system 5. - 特許庁

薄膜フィルタ４は波長の温度依存性が低く温度制御機構や波長モニター機構を省略できる。例文帳に追加

The thin film filter 4 has low temperature dependency for wavelength, so that the temperature control mechanism and a wavelength monitoring mechanism can be eliminated. - 特許庁

水晶発振式膜厚モニタ装置、及び、これを用いたＥＬ材料の蒸発源装置と薄膜形成装置例文帳に追加

CRYSTAL OSCILLATION-TYPE FILM THICKNESS MONITORING DEVICE AND EVAPORATION SOURCE DEVICE AND THIN FILM DEPOSITION SYSTEM OF EL MATERIAL USING THE SAME - 特許庁