意味 | 例文 (239件) |
複合パターンの英語
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英訳・英語 complex pattern
「複合パターン」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 239件
パターン形成方法及びパターン形成装置並びに複合型ヘッド例文帳に追加
PATTERNING METHOD AND PATTERNING DEVICE AND COMPOSITE TYPE HEAD - 特許庁
複合層と、微細回路パターンと、パターン化導電層を含む回路板構造を提供する。例文帳に追加
The circuit board structure comprises a composite layer, a fine circuit pattern, and a patterned conductive layer. - 特許庁
磁気パターンの認識方法、情報記録媒体、磁気パターン認識装置及び複合処理装置例文帳に追加
RECOGNIZING METHOD FOR MAGNETIC PATTERN, INFORMATION RECORDING MEDIUM, MAGNETIC PATTERN RECOGNIZING DEVICE AND COMPOSITE PROCESSOR - 特許庁
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「複合パターン」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 239件
磁気パターンの認識方法、情報記録媒体、磁気パターン認識装置及び複合処理装置例文帳に追加
MAGNETIC PATTERN RECOGNITION METHOD, INFORMATION RECORDING MEDIUM, MAGNETIC PATTERN RECOGNITION DEVICE, AND COMPOSITE PROCESSOR - 特許庁
微細回路パターンが複合層にちりばめられ、パターン化導電層が複合層の表面上に配置される。例文帳に追加
The fine circuit pattern is inlaid in the composite layer, and the patterned conductive layer is disposed on a surface of the composite layer. - 特許庁
回路パターンを有する複合フィルム及びその製造方法例文帳に追加
COMPOSITE FILM HAVING CIRCUIT PATTERN AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁
グリフマーク21を複合するとグリフコードパターン25が得られる。例文帳に追加
Decoding the glyph marks 21 creates a glyph code pattern 25. - 特許庁
パターン形成方法及び情報記憶媒体及び複合高真空装置例文帳に追加
PATTERN-FORMING METHOD, INFORMATION STORAGE MEDIA, AND COMPOSITE HIGH VACUUM APPARATUS - 特許庁
電極パターンの転写方法および複合電子部品の製造方法例文帳に追加
TRANSFER METHOD OF ELECTRODE PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF HYBRID ELECTRONIC COMPONENT - 特許庁
パターン形状が同一でかつパターン構成色が異なる複数のパターンを一つの版から形成し、その版からなるパターン構成色ごとの複数のパターンを基板での基準に対する位置合わせ容易に転写して、良好な複合パターンを得る。例文帳に追加
To obtain an excellent composite pattern by forming a plurality of patterns which are in the same shape and different in pattern constitution color from one plate and transferring the plurality of patterns composed of the plate for each of the pattern constitution colors to a substrate so that the patterns are easily aligned to the reference of the substrate. - 特許庁
要素パターンを重ね合わせて形成される複合パターンの画像Aと、各要素パターンの基準画像B1,B2とを取得し、画像Aと各基準画像B1,B2との間でマッチングを実行し、このマッチング結果に基づいて複合パターンにおける各要素パターン間の合わせずれを出力する。例文帳に追加
An image A of combined patterns formed by overlapping element patterns, and reference images B1, B2 of each element pattern are acquired; matching is executed between the image A and respective reference images B1, B2; and the alignment deviation among respective element patterns in combined patterns is outputted based on the matching result. - 特許庁
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complex pattern
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