過渡温度分布の英語

所定温度での定常状態は勿論のこと、温度が降下あるいは上昇していく過渡的な状態においても、サセプタやホットプレートなどの温度分布を均一にすることのできる発熱体回路パターンを提供する。例文帳に追加

To provide a heating element circuit pattern capable of uniformalizing a temperature distribution of a susceptor, a hot plate, or the like, not only in a steady status under predetermined temperature, but also in a transitional status with temperature dropping or rising. - 特許庁

熱拡散方程式解法部３５は、モデルに基づき、ランプ加熱工程でのウエハ表面の過渡熱拡散を計算しウエハの温度分布を算出する。例文帳に追加

The thermal diffusion equation solution part 35 calculates the temperature distribution of the wafer by calculating transitional thermal diffusion of the wafer surface in a lamp heating step based on the model. - 特許庁

出力１００Ｗ以上、パルス長１０〜５００ミリ秒の高出力レーザーパルスを被検体の一つの主面全体にあたるように照射することで生じた、過渡的な温度の時間変化の面分布をサンプリングレート０．０１秒以下の高速赤外線カメラにより計測することで、金属／セラミックス接合基板の熱特性の面分布を測定する。例文帳に追加

The in-plane distribution of the heat characteristics of the metal/ceramic bonded substrate is measured by measuring the plane distribution of transient temperature time change generated by radiating the high output laser pulse of the output of 100 W or more and the pulse length of 10-500 milliseconds so as to be exposed to the entire main surface of a subject, with a high speed infrared camera of the sampling rate of 0.01 second or lower. - 特許庁

セラミックスからなる均熱板の一方の主面をウエハの載置面とし、他方の主面もしくは内部に発熱抵抗体を有するとともに、該発熱抵抗体と電気的に接続される給電部を前記他方の主面に具備してなるウエハ加熱装置において、ウエハを載せ替えた際の過渡時のウエハ面の温度分布を均一にする。例文帳に追加

To obtain a wafer heater comprising a ceramic soaking plate having one major surface serving as a wafer mounting surface and the other major surface embedded with a heater and mounting a power supply section connected electrically with the heater wherein temperature distribution on the wafer surface is made uniform at the time of remounting the wafer. - 特許庁