AT/Wとは 意味・読み方・使い方

Use estimate time Te(W) required until a person at W floor presses hall call at W floor is estimated by detection of the person's position to perform allotment control for hall call which occurs at X floor based on the estimate that hall call will not occur at W floor during this time.例文帳に追加

在館者の位置検出等により、Ｗ階の在館者がＷ階でホール呼びを押すまでに必要な利用推定時間Ｔｅ（Ｗ）を推定し、この間はＷ階でホール呼びが発生しないとの推定に基き、Ｘ階に発生したホール呼びに対する割当て制御を行う。 - 特許庁

The alloy contains Ti, 3 to below 9 at% Co, Ni and Fe on impurity levels, 2 to below 4 at% Nb, and 3 to 8 at% W and has a C/(N+C) ratio of 0.50 to 0.75.例文帳に追加

この合金は、Ｔｉと、３〜＜９ａｔ％のＣｏと、不純物レベルのＮｉ及びＦｅと、２〜＜４ａｔ％のＮｂと、３〜８ａｔ％のＷとを含み、且つ０．５０〜０．７５のＣ／（Ｎ＋Ｃ）比を有する。 - 特許庁

The magnetizing interval D1 is adjusted to be 5W or higher, when the interval between the magnetizing poles of the head is set at W or two (T+2W), when the interval between the adjacent magnetic poles of the same polarity of the formed magnetic poles is T.例文帳に追加

この着磁間隔Ｄ_1 は、着磁ヘッドの着磁極間の間隙をＷとしたときに、５Ｗ以上とし、形成される磁極の隣り合う同極性の磁極間隔をＴとしたときに、（Ｔ＋２Ｗ）とする。 - 特許庁

In the method for manufacturing the sputtering target material for Ni-W based interlayer, Ni-W based alloy powder made by a gas-atomizing method, is used as raw material powder, and this is solidified and formed at 900-1150°C, for obtaining the sputtering target material containing 5-20 at% W and the balance Ni with inevitable impurities.例文帳に追加

ａｔ％で、Ｗ：５〜２０％を含み、残部Ｎｉおよび不可避的不純物からなるスパッタリングターゲット材において、ガスアトマイズ法により作製したＮｉ−Ｗ系合金粉末を原料粉末とし、これを９００〜１１５０℃の温度で固化成形したことを特徴とするＮｉ−Ｗ系中間層用スパッタリングターゲット材の製造方法。 - 特許庁