Efficiency of Target Utilizationとは 意味・読み方・使い方

To provide a planar magnetron sputtering system capable of improving efficiency of target utilization and preventing deterioration in film quality.例文帳に追加

ターゲットの利用効率を向上させると同時に膜質の劣化を防止できるプレーナーマグネトロンスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

As the magnetic field is moved, a plasma condensing unit is also moved, the erosion state of the target 15 becomes uniform, and the target utilization efficiency is enhanced.例文帳に追加

磁界の移動によってプラズマ収束部も移動し、ターエゲット１５のエロージョン状態が均一になるために、ターゲット利用効率が向上する。 - 特許庁

To provide a target for magnetron sputtering in which the progress of ununiform erosion is suppressed, and whose utilization efficiency is improved.例文帳に追加

不均一なエロージョン進行を抑制し、ターゲットの利用効率を向上させるマグネトロンスパッタリング用ターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering film deposition apparatus, which has improved utilization efficiency of a target material and forms a film excellent in uniformity.例文帳に追加

ターゲット材料の使用効率を良くできると共に形成される膜の均一性に優れたスパッタ成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target by which a large-sized sputtering target can easily and safely be attached and detached to and from a system and the utilization efficiency of the sputtering target can be increased and further the cracking of tiles during sputtering can be prevented.例文帳に追加

大型スパッタリングターゲットの装置への装脱着が、安全かつ容易に行うことが可能で、スパッタリングターゲットの利用効率を上げることができて、更に，スパッタリング中にタイルの割れを防止することができるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

The second power generation target power PL is decided in consideration of a hydrogen utilization factor causing no hydrogen deficiency or power generation efficiency in the fuel cell power generation system.例文帳に追加

この第２の発電目標電力ＰＬは、当該燃料電池発電システムにおいて、水素欠を起こさせない水素利用率や発電効率を考慮して決める。 - 特許庁

To provide a total reflection fluorescence X-ray analyzer which can significantly improve the utilization efficiency and the measuring limit of X rays by using a secondary target method ideal for the analysis of light elements.例文帳に追加

軽元素分析に好適な２次ターゲット法を用いて、Ｘ線の利用効率および測定限界を大幅に向上できる全反射蛍光Ｘ線分析装置を提供する。 - 特許庁

To provide an LPP type EUV light source and a generation method of the same which can significantly enhance utilization efficiency of target material and energy, and can suppress generation of debris and deterioration of a degree of vacuum of a chamber.例文帳に追加

ターゲット物質及びエネルギーの利用効率を大幅に高めることができ、かつデブリの発生とチャンバーの真空度悪化を抑制することができるＬＰＰ方式のＥＵＶ光源とその発生方法を提供する。 - 特許庁