HMDsとは 意味・読み方・使い方

The generated HMDS gas is delivered to a substrate processor with nitrogen gas as carrier gas.例文帳に追加

生成されたＨＭＤＳガスは、キャリアガスである窒素ガスとともに、基板処理装置へ送られる。 - 特許庁

Then surface treatment using HMDS (HexaMethylDiSilazane) and thiol compound is performed and then the whole surface is exposed.例文帳に追加

その後、ＨＭＤＳおよびチオール化合物を用いた表面処理が行われ、全面が露光される。 - 特許庁

EVALUATION METHOD OF HYDROPHOBIC PROPERTY, HMDS PROCESSING SUBSTRATE, EVALUATION SYSTEM OF HYDROPHOBIC PROPERTY, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

疎水性の評価方法、ＨＭＤＳ処理基板、疎水性の評価システム、半導体装置、及び電子機器 - 特許庁

Vaporized HMDS 15 is sent into the chamber 10 by pressure by the nitrogen gas.例文帳に追加

この窒素ガスによって、気化したＨＭＤＳ１５はチャンバ１０内に圧送される。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for HMDS processing which can reduce photoresist peeling.例文帳に追加

フォトレジスト剥がれを低減できるＨＭＤＳ処理方法およびＨＭＤＳ処理装置を提供する。 - 特許庁

When no vaporization is performed, a stored HMDS liquid does not come into contact with the carrier gas, thus restraining the deterioration of the HMDS liquid.例文帳に追加

従って気化を行わないときには、貯留されたＨＭＤＳ液がキャリアガスに接触するといったことがないので、ＨＭＤＳ液の劣化が抑えられる。 - 特許庁

A light irradiation portion 160 which irradiates HMDS on the wafer W with light to bring the HMDS into contact with the surface of the wafer W is provided obliquely above the placing table 120.例文帳に追加

載置台１２０の斜め上方には、ウェハＷのＨＭＤＳに光を照射して、ウェハＷの表面にＨＭＤＳを密着させる光照射部１６０が設けられている。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes a step of performing the HMDS processing within the range of y≥-0.16x+32, 100≤x≤170 when a processing temperature in the HMDS processing is set to x [°C] and a processing time in the HMSD processing is set to y [min].例文帳に追加

ＨＭＤＳ処理における処理温度をｘ［℃］とし、ＨＭＤＳ処理における処理時間をｙ［分］としたとき、ｙ≧−０．１６ｘ＋３２，１００≦ｘ≦１７０の範囲内で、ＨＭＤＳ処理する半導体装置の製造方法とする。 - 特許庁