Hydrogen Peroxide (H2O2)とは 意味・読み方・使い方

The chemical formula of hydrogen peroxide is H2O2.例文帳に追加

過酸化水素の化学式はH2O2です。 - Weblio Email例文集

This etching agent consists of an aqueous solution containing hydrofluoric acid (HF) and a hydrogen peroxide solution (H2O2), and materials reacted with a resist are not used, so that the resist is not eroded.例文帳に追加

エッチング剤の構成は、フッ酸（ＨＦ）及び過酸化水素水(Ｈ_2Ｏ_2)を含む水溶液からなり、レジストと反応する材料を用いていないため、レジストを侵食しない。 - 特許庁

To provide a continuous manufacturing method of hydrogen peroxide, which is capable of performing under a highly safe condition and attaining high productivity and high molar selectivity to the formation of H2O2.例文帳に追加

安全性の高い条件下で行なうことができ、高い生産性およびＨ_２Ｏ_２の形成に対する高いモル選択性が得られる、過酸化水素の連続製造法の提供。 - 特許庁

By adding at least one kind of the acid out of acids, such as a hydrogen peroxide (H2O2) and a hydrochloric acid (HCl), into the ozone water Lo, the acid can be fed to the surface of the substrate S along with the ozone water Lo.例文帳に追加

オゾン水Ｌｏ中には、過酸化水素（Ｈ_2 Ｏ_2 ）や塩酸（ＨＣｌ）等の酸のうちの少なくとも１種類を添加することで、基板Ｓの表面にオゾン水Ｌｏと共に酸を供給しても良い。 - 特許庁

A specified voltage is then applied between the electrodes, and an oxidizing agent consisting of hydrogen peroxide (H2O2) is dripped into the solution to deposit a lithium cobalt oxide thin film on the anode.例文帳に追加

次いで、前記電極間に所定の電圧を印加するとともに、前記反応溶液に過酸化水素（Ｈ_２Ｏ_２）からなる酸化剤を滴下し、前記アノード電極上にリチウムコバルト酸化物薄膜を形成する。 - 特許庁

A preform 1 is manufactured by a container manufacturer, H2O2 solution 11 that the aqueous solution of hydrogen peroxide is diluted with a volatile solvent is dripped on an inner surface of the preform 1, the preform is placed in a solution 3, sealed by a lid 4, and carried in a food manufacturer.例文帳に追加

容器メーカでプリフォーム1 を作製し、そのプリフォーム1 の内面に、過酸化水素水溶液を揮発性溶剤で希釈したＨ_2Ｏ_2 溶液11を滴下し、これをコンテナ3 に入れて蓋4 で密閉して食品メーカに搬入する。 - 特許庁

Although the etching rate of a tungsten is 4-5 times faster in a solution which is normally used, to raise the selective ratio of the titanium nitride, the mole ratio for H2O2/HCI is set at 1/100 or smaller with a solution temperature at 70°C or higher related to the mixed liquid of hydrochloric acid and hydrogen peroxide used for wet-etching.例文帳に追加

通常使用されている溶液ではタングステンのほうが４〜５倍速いエッチングレートを窒化チタンの選択比を高める方法としてウエットエッチングに用いる塩酸と過酸化水素の混合液においてＨ_２Ｏ_２／ＨＣｌのモル比を１／１００以下とし、且つ溶液温度を７０℃以上とする。 - 特許庁