O layerとは 意味・読み方・使い方

The recording layer comprises an (a) layer containing SiC and O (oxygen), a (b) layer laminating an SiO_2 layer and an SiC layer to this order, a (c) layer laminating the SiC layer and the SiO_2 layer to this order.例文帳に追加

（ａ）ＳｉＣとＯ（酸素）とを含有する層、（ｂ）ＳｉＯ_２層とＳｉＣ層をこの順に積層した層、（ｃ）ＳｉＣ層とＳｉＯ_２層とをこの順に積層した層 - 特許庁

The layered product contains at least each of a polyester film layer, a metal layer (M layer), and a metallic oxide layer (O layer).例文帳に追加

ポリエステルフィルム層と金属層（Ｍ層）と金属系酸化物層（Ｏ層）を少なくともそれぞれ１層含む積層体とする。 - 特許庁

A first high-resistance layer 22A comprising cadmium oxide (Gd-O) is formed in a storage layer 20, together with a second high-resistance layer 22B comprising aluminum oxide (Al-O) or silicon oxide (Si-O).例文帳に追加

記憶層２０に、酸化ガドリニウム（Ｇｄ−Ｏ）よりなる第１高抵抗層２２Ａと、酸化アルミニウム（Ａｌ−Ｏ）または酸化シリコン（Ｓｉ−Ｏ）よりなる第２高抵抗層２２Ｂとを設ける。 - 特許庁

Moreover, the layer of Al_2O_3 is made to include the supplementary layer of at least one layer containing Al, Si and O.例文帳に追加

さらに、Ａｌ_２Ｏ_３層は、Ａｌ、Ｓｉ及びＯを含有する少なくとも１層の副層を含む。 - 特許庁

The (Ni, Zn)O layer 3 is preferably composed of a sintered body.例文帳に追加

（Ｎｉ，Ｚｎ）Ｏ層３は焼結体からなることが好ましい。 - 特許庁

The single layer pad 103 is formed on the I/O buffer 102.例文帳に追加

単層パッド１０３は、Ｉ／Ｏバッファ１０２上に形成されている。 - 特許庁

The lower layer 31 is formed by any of Ta-Si-O, Ta-Si-O-N, Ta-Si-Al-O, or Ta-Si-Al-O-N, and the heat generating resistor layer 33 is also formed by the same composition.例文帳に追加

下部層３１はＴａ−Ｓｉ−Ｏ、Ｔａ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ、Ｔａ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｏ又はＴａ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｏ−Ｎのいずれかで形成され、発熱抵抗層３３も同様の組成で形成される。 - 特許庁

A magnetoresistive effect element having a high magnetoresistive effect is obtained by forming a high-polarizability layer having a thickness of ≤10 nm in contact with the interface between a nonmagnetic layer and an intermediate layer as an Fe-rich Fe-O layer and heat-treating the Fe-O layer into a ferromagnetic Fe-O layer.例文帳に追加

非磁性層中間層界面に接して１０ｎｍ以下の厚さの高分極率層を、ＦｅリッチなＦｅ—Ｏ層として形成し、熱処理によって強磁性Ｆｅ−Ｏ層の積層膜とし、これによって高い磁気抵抗効果を有する磁気抵抗効果素子を得る。 - 特許庁