argon atomとは 意味・読み方・使い方

By guiding in the sublimated fullerene in the plasma stream, an argon-atom-containing fullerene is generated.例文帳に追加

このプラズマ流中に昇華したフラーレンを導入することにより、アルゴン原子内包フラーレンを生成する。 - 特許庁

Atom recombination reactions are accelerated by the action of argon ions generated by argon plasma and silicon fluoride (SiF4) and a carbon oxide (CO or CO2) are generated and discharged.例文帳に追加

アルゴンプラズマで生成したアルゴンイオンの作用により、原子の組み替え反応が進行し、フッ化シリコン（ＳｉＦ_4 ）および酸化炭素（ＣＯまたはＣＯ_2 ）が生成し、排気される。 - 特許庁

It is preferable that the washout gas mixture includes a mixture of helium and fluorine to which argon is added and the quantity of the helium in the washout gas mixture ranges from 3.1 to 31 atom percent.例文帳に追加

ウォッシュ・アウトガス混合物は、アルゴンが追加されるヘリウムとフッ素との混合物を含むのが好ましく、ウォッシュ・アウトガス混合物の中のヘリウムの量は３．１〜３１原子パーセントの範囲である。 - 特許庁

In a method for forming a copper thin film on a base material by a sputtering method, the film formation is performed under a deposition atmosphere of a mixed atmosphere where 60-95% by volume of argon gas and gas of molecules having a bond of a nitrogen atom and a hydrogen atom are mixed.例文帳に追加

スパッタリング法による基材への銅薄膜の成膜方法において、成膜雰囲気が、６０体積％から９５体積％のアルゴンガスと、窒素原子と水素原子の結合を有する分子のガスの混合雰囲気下で行うことを特徴とする。 - 特許庁

When the CoCrPt magnetic layer is deposited by sputtering, a gaseous oxygen-argon mixture is used as a sputtering gas and the mixing ratio of oxygen is regulated so that 5.0-16.5 atom % oxygen is contained in the magnetic layer.例文帳に追加

スパッタリングによりＣｏＣｒＰｔ磁性層を成膜する際に、スパッタガスとして酸素及びアルゴン混合ガスを用い、酸素混合比を調節して磁性層中に酸素を５．０〜１６．５原子％含有させる。 - 特許庁

A thermal type air flow rate sensor is configured to carry out ion implanting by using at least any one atom or molecule from among inactive elements such as silicon, oxygen, argon, or nitrogen to a silicon oxide film 4 formed most closely to the surface (in the uppermost layer), and to make the density of the atom contained in the silicon oxide film 4 higher than that before carrying out ion implanting.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明の熱式空気流量センサは、表面の最も近く（最上層）に形成されるシリコン酸化膜４に、シリコン，酸素又はアルゴンや窒素等の不活性元素の中から少なくともいずれか一つの原子又は分子を用いてイオン打ち込みを行い、シリコン酸化膜４に含まれる原子の濃度をイオン打ち込みを行う前よりも高める。 - 特許庁

At least one kind of gas among unreactive gas like argon, oxygen atom supply gas like oxygen and oxidizing gas like nitrogen oxide is activated in a remote plasma generator 12, and then the activated gas is supplied to the chamber 1 as the gas including active species, together with the halogen gas like boron trichloride.例文帳に追加

アルゴンなどの非反応性ガス、酸素などの酸素原子供給性ガスおよび窒素酸化物などの酸化性ガスの少なくとも１種をリモートプラズマ発生装置１２において活性化して、活性種を含むガスとし、このガスを三塩化ホウ素などのハロゲン系ガスとともチャンバ１に導入する。 - 特許庁