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binary gasとは 意味・読み方・使い方
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「binary gas」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 28件
BINARY SYSTEM GAS MIXTURE COMPRISING HELIUM AND OXYGEN AND ITS USE例文帳に追加
ヘリウムと酸素からなる二元系ガス混合物およびその使用 - 特許庁
METHOD FOR PREVENTING EXHAUST FROM GENERATING WHITE SMOKE IN BINARY CYCLE GAS TURBINE SYSTEM例文帳に追加
二流体サイクルガスタービン装置における排気の白煙防止方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR MONITORING COMPOSITION OF BINARY COMPONENT BREATHING GAS MIXTURE例文帳に追加
2成分呼吸ガス混合気の混合を監視するための方法および装置 - 特許庁
BINARY FLUID GAS TURBINE, ITS OPERATION METHOD, AND REPOWERING METHOD FOR GAS TURBINE例文帳に追加
2流体ガスタービン及びその運転方法及びガスタービンのリパワリング方法 - 特許庁
BINARY REFRIGERATING SYSTEM COMBINING AMMONIA CYCLE AND CARBON DIOXIDE GAS CYCLE例文帳に追加
アンモニアサイクルと炭酸ガスサイクルとを組み合わせた二元冷凍システム - 特許庁
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「binary gas」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 28件
This helium/nitrogen gas mixture comprises a binary gas mixture composed of nitrogen of 60 to 80 vol.% and helium in balance.例文帳に追加
60体積%から80体積%までの窒素および残部のヘリウムからなる2元ガス混合物。 - 特許庁
This helium/nitrogen gas mixture comprises a binary gas mixture composed of nitrogen of 30 to 60 vol.% and helium in balance.例文帳に追加
30体積%から60体積%までの窒素および残部のヘリウムからなる2元ガス混合物。 - 特許庁
The carbon monoxide in the hydrogen-containing gas is brought into contact with oxygen in the presence of a copper-platinum binary catalyst.例文帳に追加
銅・白金共存系触媒の存在下、水素含有ガス中の一酸化炭素と酸素を接触させる。 - 特許庁
The carbon monoxide in the hydrogen-containing gas is brought into contact with oxygen in the presence of an iron-platinum binary catalyst.例文帳に追加
鉄・白金共存系触媒の存在下、水素含有ガス中の一酸化炭素と酸素を接触させる。 - 特許庁
BINARY TYPE GRANULAR DEHYDROCHLORINATION REACTION AGENT, PRODUCTION THEREOF, AND DEHYDROCHLORINATION FROM GAS CONTAINING HYDROCHLORIC ACID USING SAME AGENT例文帳に追加
2成分型粒状脱塩化水素反応剤及びその製造方法並びにこれを用いた塩化水素含有ガスの塩化水素除去方法。 - 特許庁
In the fifth step, a pit line 16 expressing binary data is formed on the quartz layer 12 by the action of gas-etching.例文帳に追加
第5ステップにて、ガスエッチングを作用させて石英層12に2値化データを表すピット列16を形成する。 - 特許庁
To provide a control method reducing the risk of surge of gas turbine compressors equipped with binary bleed valves.例文帳に追加
二元ブリード弁を備えたガスタービン圧縮機のサージの危険性を軽減できる制御方法の提供。 - 特許庁
At the same time when the etching gas is introduced, a Group III material gas including B making up, for example B, a binary compound, which is relatively subject to etching with respect to the etching gas is introduced.例文帳に追加
その際、エッチングガスの導入と同時に、このエッチングガスに対して相対的にエッチングされ易い方の2元化合物である例えばBXを構成するBを含有するIII族原料ガスを導入する。 - 特許庁
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