buffered HFとは 意味・読み方・使い方

To provide a technology for manufacturing a semiconductor integrated circuit device for preventing generation of local silicon deletion(pit) in a silicon substrate at the time of oxide film etching by buffered HF liquid added with surface active agent.例文帳に追加

界面活性剤が添加されたバッファドＨＦ液で酸化膜エッチングを行う時、シリコン基板に局所的なシリコンの削れ（ピット）が生じない半導体集積回路装置の製造技術を提供する。 - 特許庁

The alkali-free glass substrate for the liquid crystal panel includes a Haze value of ≤7.0% after being immersed in a buffered fluoric acid solution comprising 5.3 mass% of hydrofluoric acid (HF), 35.8 mass% of ammonium fluoride (NH_4F) and the balance water for 20 min at 25°C.例文帳に追加

液晶パネル用の無アルカリガラス基板において、フッ酸（ＨＦ）：５．３質量％、フッ化アンモニウム（ＮＨ_４Ｆ）：３５．８質量％、残部：水からなるバッファードフッ酸の溶液中に２５℃、２０分間浸漬した後のヘイズ値が７．０％以下である。 - 特許庁

To restrain an etching rate from lowering caused by continuous etching by only a mixed acid, by etching buffered hydrofluoric acid after etching by the mixed acid that is a chemical liquid mixed with hydrogen fluoride HF and nitric acid HNO_3, and to uniformly remove a conductive film on a surface of a substrate, or a conductive film on a reverse face of the substrate.例文帳に追加

フッ酸（ＨＦ）と硝酸（ＨＮＯ_3）との混酸を用いたエッチング方法では、この混酸を供給し続けている個所のエッチングレートが低下する傾向が見られ、基板の表面または裏面のポリシリコン膜を、均一に除去することは困難である。 - 特許庁

Since this silicon oxide film 16 is isotropically etched through the wet process with the Buffered HF solution from the state projected from the surface of the polycrystal silicon film 13, the slope 16a of this silicon oxide film 16 is formed in the shape of roof toward the central region.例文帳に追加

このシリコン酸化膜１６は、多結晶シリコン膜１３の表面から突出する状態からBufferedＨＦ溶液でウェット処理をすることで等方的にエッチングされるので、中央部に向かって傾斜面１６ａを屋根状に有する構成となる。 - 特許庁