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charged test particleとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 荷電試験粒子
「charged test particle」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 38件
CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE AND PICK-UP METHOD OF TEST PIECE USING CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE例文帳に追加
荷電粒子ビーム装置、及び荷電粒子ビーム装置を用いた試料のピックアップ方法 - 特許庁
SCANNING IRRADIATION METHOD OF CHARGED PARTICLE BEAM, CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, TEST PIECE OBSERVATION METHOD, AND TEST PIECE PROCESSING METHOD例文帳に追加
荷電粒子ビーム走査照射方法、荷電粒子ビーム装置、試料観察方法、及び、試料加工方法 - 特許庁
ROUGHNESS JUDGMENT METHOD OF TEST PIECE AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE例文帳に追加
試料の凹凸判定方法、及び荷電粒子線装置 - 特許庁
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「charged test particle」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 38件
CHARGED-PARTICLE BEAM DEVICE, TEST PIECE HOLDING SYSTEM, METHOD FOR HOLDING TEST PIECE, AND METHOD FOR DETACHING TEST PIECE例文帳に追加
荷電粒子線装置,試料保持システム,試料の保持方法、および、試料の離脱方法 - 特許庁
TEST PIECE HOLDER MOVING MECHANISM, VACUUM EQUIPMENT, AND CHARGED PARTICLE BEAM EQUIPMENT例文帳に追加
試料ホルダ移動機構及び真空装置並びに荷電粒子ビーム装置 - 特許庁
INSPECTING METHOD OF SEMICONDUCTOR WAFER TEST PIECE WHICH USES CHARGED PARTICLE BEAM AND EQUIPMENT例文帳に追加
荷電粒子ビームを用いた半導体ウェハ試料の検査方法および装置 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, COMPUTER PROGRAM USED FOR IT, AND TEST PIECE IMAGE OBSERVATION METHOD例文帳に追加
荷電粒子線装置、それに用いられるコンピュータプログラム、及び試料像観察方法 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS AND TEST PIECE INFORMATION DETECTION METHOD USING THE SAME例文帳に追加
荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビームを用いた試料情報検出方法 - 特許庁
This is an automatic focusing method of a scanning electron microscope 10 which acquires an image signal and forms a test piece image based on secondary charged particle beams from a test piece irradiated with charged particle beams.例文帳に追加
荷電粒子ビームが照射された試料からの2次荷粒子に基づいて画像信号を取得し試料像を形成する走査電子顕微鏡10のオートフォーカス方法である。 - 特許庁
To provide a charged particle beam device capable of irradiating charged particle beams to a test piece by reducing aberration and capable of irradiating charged particle beams without a possibility of discharge even when introducing gas to the surface of the test piece.例文帳に追加
収差を軽減して試料に荷電粒子ビームを照射可能であるとともに、試料の表面にガスを導入する場合などでも、放電のおそれ無く荷電粒子ビームを照射することが可能な荷電粒子ビーム装置を提供する。 - 特許庁
To provide a charged particle beam lithography method and a charged particle beam lithography apparatus, capable of creating a map even when any measurement error occurs and accurately converge a charged particle beam on the surface of a test piece on the basis of the results.例文帳に追加
測定エラーが生じた場合であってもマップを作成し、その結果を基に荷電粒子ビームを試料の表面に正確に収束させることが可能な荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁
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