chemical process systemとは 意味・読み方・使い方

A chemical liquid part comprising a chemical liquid supply system and an exhaust/liquid discharge process system, which is housed in a side cabinet 2 is provided adjacent to a process part 1 for applying a substrate with a coating liquid for forming a coating film, with an interval from the process part 1.例文帳に追加

基板に塗布液を塗布して塗布膜を形成するための処理部１に対し、薬液供給系および排気・排液処理系を有する薬液部が隣接した状態で、かつサイドキャビネット２に収容された状態で処理部１から隔離して設けられている。 - 特許庁

To provide a chemical material distributing system for semiconductor manufacturing industries for carrying the process chemical materials from bulk sources while keeping high purity states and distributing them accurately without being contaminated.例文帳に追加

バルク源から高純度の状態でプロセス化学物質を搬送し、正確に、汚染なしに配送する半導体製造産業用の化学物質配送システムを提供する。 - 特許庁

To provide a chemical substance management system improving efficiency of a procedure for requesting an "in-process nonuse certificate of chemical substance" by a product purchase maker, and allowing totaling of a use situation of chemical substance in a product manufacturer.例文帳に追加

製品購入メーカが「化学物質の工程内不使用証明書」を求める手続きを効率化し、製品製造メーカにおける化学物質の使用状況の集計が可能な、化学物質管理システムを提供する。 - 特許庁

To provide an altered purge gas supply system with no bad influence to the activity of a chemical substance used in a lithographic process.例文帳に追加

リソグラフ工程に使用される化学物質の活性に悪影響を与えない改変されたパージガス供給システムを提供する。 - 特許庁

PROCESS AND SYSTEM FOR METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION(MOCVD) FOR LEAD GERMANIUM OXIDE (PGO) THIN FILM AND ANNEALING例文帳に追加

ゲルマニウム酸化鉛（ＰＧＯ）薄膜の金属有機化学気相成長（ＭＯＣＶＤ）およびアニーリングのための方法およびシステム - 特許庁

To provide a process for metal organic chemical vapor deposition for a lead germanium oxide (PGO) thin film and for an annealing process, and also to provide a system for performing them.例文帳に追加

ゲルマニウム酸化鉛（ＰＧＯ）薄膜材料のための金属有機化学気相成長およびアニーリングプロセス、ならびにそれらを実行するシステム提供すること。 - 特許庁

To provide a chemical supply system in which chemical can be supplied stably to a processing unit and various problems in the production process of semiconductor device can be overcome.例文帳に追加

安定して薬液を処理装置に供給することが可能で、半導体装置の製造工程における諸問題を解決することのできる薬液供給装置を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical vapor deposition system having a system constitution compact and simple correspondingly to the enlargement of a substrate, and capable of securely performing film deposition by a chemical vapor deposition process, and to provide a film deposition method using the same.例文帳に追加

基板の大型化に対応してコンパクトで簡素な装置構成で、確実に化学気相成長法による成膜を行うことが可能な化学気相成長装置及びこれを用いた成膜方法を提供する。 - 特許庁