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crn-2とは 意味・読み方・使い方

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遺伝子名称シソーラスでの「crn-2」の意味

crn-2

worm遺伝子名crn-2
同義語(エイリアス)CE16950; CD4.2; WP:CE16950
SWISS-PROTのID---
EntrezGeneのIDEntrezGene:178945
その他のDBのIDWormBase:WBGene00000795

本文中に表示されているデータベースの説明

SWISS-PROT
スイスバイオインフォマティクス研究所欧州バイオインフォマティクス研究所によって開発運営されているタンパク質アミノ酸配列データベース
EntrezGene
NCBIによって運営されている遺伝子データベース染色体上の位置配列発現構造機能、ホモロジーデータなどが含まれている
WormBase
欧米研究所大学により運営されている研究用の線虫生態遺伝子情報に関するデータベース

「crn-2」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 6



例文

And a base coating 4 in CrN may be formed between the nitric layer 2 and the hard coating 3.例文帳に追加

また、窒化層2と硬質皮膜3の間にCrNからなる下地皮膜4を形成してもよい。 - 特許庁

Contact faces of a torpedo 21 at the apex of the plasticization screw 2, a ring valve 22 and a sheet ring 23 with the molten resin are coating-treated with CrN.例文帳に追加

可塑化スクリュ2の先端のトーピード21とリングバルブ22及びシートリング23の溶融樹脂との接触面をCrNコーティング処理する。 - 特許庁

In this gear structure used under the circumstances of very low temperature, a gear 2 made of austenite stainless steel including Cr, Ni and Mo is used, and an ion plating film 13 composed of CrN is formed on its tooth flank 3.例文帳に追加

また、極低温環境下で使用する歯車構造において、歯車2をCr,Ni,Moを含有するオーステナイト系ステンレス鋼で形成し、その歯面3にCrNからなるイオンプレーティング被膜13を形成したものである。 - 特許庁

An Ni-Cu alloy plating film 4 is formed on an inner surface 3a of a cylinder of the aluminum alloy cylinder block 2, and a CrN film 8d is formed on at least a top ring 8a of the piston ring 8 reciprocating along the plating film 4.例文帳に追加

アルミ合金製シリンダブロック2のシリンダ内面3aにNi−Cu合金のメッキ被膜4を形成し、このメッキ被膜4に沿って往復移動するピストンリング8のうちの少なくともトップリング8aにCrN被膜8dを形成した。 - 特許庁

The component is obtained by laminating a hard film 2 having excellent erosion resistance and composed of at least one or more selected from TiN, TiAlN, CrN, TiC, TiCN and ZrN and a fouling preventive film 3 having excellent wear resistance and composed of fluorine-containing diamond-like carbon.例文帳に追加

金属基材1の表面1a上に、耐エロージョン性に優れたTiN、TiAlN、CrN、TiC、TiCN、ZrNの内の少なくとも1種以上からなる硬質皮膜2と、耐摩耗性に優れたふっ素含有ダイヤモンドライクカーボンからなるファウリング防止皮膜3とが積層されてなる。 - 特許庁

例文

A thin film for wiring is composed of a double layer structure composing of a Cr film contg. nitrogen element at a lower layer film 2, which is formed by sputtering with using CrN target and pure Ar gas as a sputtering gas, and a Cr film contg. no nitrogen element as an upper layer film 1, which is formed by sputtering with using Cr target and pure Ar gas as a sputtering gas.例文帳に追加

配線用薄膜を、CrNターゲットを用い、スパッタガスとして純Arガスを用いたスパッタリングにより形成した窒素元素を含有するCr膜を下層膜2とし、Crターゲットを用い、スパッタガスとして純Arガスを用いたスパッタリングにより形成した窒素元素を含有しないCr膜を上層膜1とした二層構造とする。 - 特許庁

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