dielectric filmsとは 意味・読み方・使い方

METHOD FOR MANUFACTURING PERMEABLE DIELECTRIC FILMS例文帳に追加

透過性誘電体膜の製造方法 - 特許庁

The semiconductor element has a double dielectric film containing first dielectric films 22A and 63A, which contain aluminum, and second dielectric films 22B and 63B laminated on the first dielectric films and each having dielectric constants higher than those of the first dielectric films.例文帳に追加

アルミニウムが含まれた第１誘電膜２２Ａ、６３Ａと、前記第１誘電膜上に積層され、前記第１誘電膜より高誘電率を有する第２誘電膜２２Ｂ、６３Ｂとを含む二重誘電膜を有する。 - 特許庁

Or, the 1st and 2nd dielectric films are 37.5-47.5 nm, the metal film is 5.5-6.5 nm, total of both dielectric films is 77.5-92.5, the 2nd dielectric film/the 1st dielectric film is 0.85-1015.例文帳に追加

あるいは、第１及び第２誘電体膜：37.5〜47.5nm、金属膜：5.5〜6.5nm、両誘電体膜の合計：77.5〜92.5nm、第２誘電体膜厚／第１誘電体膜厚：0.85〜1.15とする。 - 特許庁

The first and second wiring layer insulating films include first and second low dielectric constant films (first low dielectric constant film 4 and third low dielectric constant film 11).例文帳に追加

第１、第２の配線層絶縁膜は、第１、第２の低誘電率膜（第１の低誘電率膜４、第３の低誘電率膜１１）を含む。 - 特許庁

Dielectric film, diamonds and non-crystalline diamond-like carbon films発音を聞く 例文帳に追加

誘電体膜、ダイヤモンド又は非晶質ダイヤモンド状炭素膜 - 日本法令外国語訳データベースシステム

Low refractive index dielectric films L and high refractive index dielectric films H are alternately layered on a substrate 1, and a third dielectric film 4 is deposited in the layers.例文帳に追加

基板１上に低屈折誘電体膜Ｌと高屈折誘電体膜Ｈとを交互に積層し、その間に第３の誘電体膜４を積層する。 - 特許庁

To reduce leakage currents, improve dielectric breakdown voltage, and reduce temporal dielectric breakdowns, of insulation films and dielectric films formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上に形成される絶縁膜や誘電体膜のリーク電流低減、絶縁耐圧の向上、経時的絶縁破壊の低減を図る。 - 特許庁