dodecylbenzenesulfonic acidとは 意味・読み方・使い方

The composition of the etching liquid is constituted of dodecylbenzenesulfonic acid, oxalic acid, and water.例文帳に追加

ドデシルベンゼンスルホン酸とシュウ酸と水を配合してエッチング液組成物を構成する。 - 特許庁

A nonflammable isopropyl bromide and/or normal propyl bromide is mixed with dodecylbenzenesulfonic acid.例文帳に追加

ドデシルベンゼンスルホン酸に対し、非引火性のイソプロピルブロマイドおよび／またはノルマルプロピルブロマイドとを混合する。 - 特許庁

This method for inhibiting the polymerization of the aromatic vinyl compound comprises adding oxygen, one or more kinds of polymerization inhibitors (which are selected from an aromatic nitro compound, a nitroxyl compound with steric hindrance, and a phenylenediamine compound), and one or more kinds of organic sulfonic acid compounds (which are selected from toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, pentadecylbenzenesulfonic acid or the like) to the aromatic vinyl compound.例文帳に追加

酸素、重合抑制剤（芳香族ニトロ化合物、立体障害性ニトロキシル化合物、フェニレンジアミン化合物から選ばれる１種以上）及び有機スルホン酸化合物（トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ペンタデシルベンゼンスルホン酸などから選ばれる１種以上）を添加することからなっている。 - 特許庁

This resinous powder with low discoloration is obtained by wet-pulverization of a resinous raw material by a pulverizer such as a vibrating ball mill using water containing a surfactant such as sodium salt of dodecylbenzenesulfonic acid as a dispersant, filtering and drying.例文帳に追加

樹脂系原料を、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等の界面活性剤を含む水を分散媒として、振動ボールミル等の粉砕機により湿式粉砕し、ろ過、乾燥を行なう事によって着色の少ない樹脂系粉末を得る。 - 特許庁

A polychloroprene rubber comprises: 0.1 to 5.0 mass% of the total of at least one compound among phosphite ester compounds such as tri(nonylphenyl) phosphite and tributyl phosphite and phosphate ester compounds such as tri(nonylphenyl) phosphate and tributyl phosphate; and 0.1 to 3.0 mass% of the total of at least one compound among sulfonic acid compounds such as benzenesulfonic acid and dodecylbenzenesulfonic acid, and fatty acid compounds.例文帳に追加

ポリクロロプレンゴムに、亜リン酸トリ（ノニルフェニル）エステルや亜リン酸トリブチルエステルなどの亜リン酸エステル化合物、及びリン酸トリ（ノニルフェニル）エステルやリン酸トリブチルエステルなどのリン酸エステル化合物のうち少なくとも１種の化合物を合計で０．１〜５．０質量％と、ベンゼンスルホン酸やドデシルベンゼンスルホン酸などのスルホン酸化合物、及び脂肪酸化合物のうち少なくとも１種の化合物を合計で０．１〜３．０質量％とを含有させる。 - 特許庁

The method for forming a circuit pattern includes steps of: exfoliating resist by dissolving the resist film on the circuit board after forming patterns by an exfoliating solution including dodecylbenzenesulfonic acid; surface activating the surface of a substrate by cyanide sodium after alcohol-defatting the substrate after the resist exfoliation step; and cleaning the circuit board with its surface activated by the surface activation step.例文帳に追加

ドデシルベンゼンスルホン酸を含む剥離液により、パターン形成工程後の回路基板に対し、レジスト膜を溶解するレジスト剥離工程、上記レジスト剥離工程後の回路基板をアルコール脱脂した後、青化ソーダにより基板表面を活性化する表面活性化工程、上記表面活性化工程により表面の活性化された回路基板を洗浄する洗浄工程、により回路パターンを形成する。 - 特許庁

This process for the preparation of the high quality amine oxide which comprises reacting a tertiary or secondary amine with hydrogen peroxide as an oxidizer in the presence of a recyclable heterogeneous layered double hydroxide exchanged with one of the anions of transition metal oxides as a catalyst in a solvent selected from the group consisting of water, water containing dodecylbenzenesulfonic acid sodium salt as additive, and a water miscible organic solvent.例文帳に追加

水、添加剤としてのドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩を含有する水、および水と混和可能な有機溶媒からなる群から選ばれる溶媒中で、触媒としての、遷移金属酸化物アニオンの１つと交換されたリサイクル可能な不均一な層化された複水酸化物の存在下で、酸化剤としての過酸化水素と、第三級または第二級アミンとを反応させることによる高品質アミンオキシドの製造方法。 - 特許庁