dry etching technologyとは 意味・読み方・使い方

An etching stopper film 11 and an insulating film 12 are processed through dry-etching technology, so as to have the dry-etching rate of a plug 10 and the dry-etching rate of the etching stopper film 11 which is approximately equal to each other.例文帳に追加

エッチストッパ膜１１および絶縁膜１２を、プラグ１０と前記エッチストッパ膜１１とのドライエッチングレートがほぼ同一になるようにドライエッチング技術を用いて加工する。 - 特許庁

Since the second and fourth surfaces are planar, the application of a microfabrication technology such as dry etching and wet etching is facilitated.例文帳に追加

また、第２、４の面が平面であることから、ドライエッチング、ウエットエッチングのような微細加工技術の適用が容易になる。 - 特許庁

Gate electrodes 18, 19 and 20, 21 are formed using a dry etching technology.例文帳に追加

ドライエッチング技術を使用して、ゲート電極１８、１９およびゲート電極２０、２１を形成する。 - 特許庁

In one embodiment, the dies are separated using a technology of alternating dry-etching/polymer deposition.例文帳に追加

一実施形態において、ダイは、交互のドライ・エッチングおよびポリマー堆積技術を使用して分離される。 - 特許庁

By using photolithography technique and dry etching technology, patterning is performed by anisotropical etching of the insulating film 19 up to the middle of a conductive film 4A.例文帳に追加

フォトリソグラフィ技術およびドライエッチング技術を用い、絶縁膜１９および導電性膜４Ａの途中までは異方性エッチングによりパターニングを進める。 - 特許庁

To provide a semiconductor luminous element where light-extraction efficiency is high and a radiating pattern is excellent without using a microscopic lithography technology and a dry etching technology.例文帳に追加

微細リソグラフィー技術やドライエッチング技術を用いることなく、光取り出し効率が高く且つ放射パターンが良好な半導体発光素子を提供する。 - 特許庁

To provide a technology to improve the unevenness in dry etching caused by the hygroscopicity of a low dielectric constant film.例文帳に追加

低誘電率膜の吸湿性に起因するドライエッチング加工の不均一性を改善することのできる技術を提供する。 - 特許庁