PROJECTION MASK, ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD, ELECTRON BEAM ALIGNER, SEMICONDUCTOR DEVICE AND PRODUCTION METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

投影マスク、電子線露光方法、電子線露光装置、半導体装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

ELECTRON GUN, ELECTRON BEAM EXPOSURE TRANSFER DEVICE, AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

電子銃、電子線露光転写装置及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

MANUFACTURE OF ELECTRON GUN, ELECTRON BEAM EXPOSURE DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

電子銃、電子線露光装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

ELECTRON SOURCE, ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE AND INSPECTION METHOD FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

電子ソース、電子ビーム検査装置、及び半導体基板の検査方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM EXPOSURE SYSTEM AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

電子線露光装置及び半導体デバイスの製造方法。 - 特許庁

ELECTRON BEAM TRANSFER EQUIPMENT AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

電子ビ—ム転写装置及び半導体デバイス製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD例文帳に追加

半導体装置の製造方法及び電子線露光方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

電子線露光方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM EXPOSURE SYSTEM AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

電子ビーム露光装置及び半導体素子製造方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM TRANSFER EQUIPMENT AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

電子線転写装置及び半導体デバイス製造方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM EXPOSURE DEVICE, ELECTRON BEAM EXPOSURE DEVICE CORRECTING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

電子ビーム露光装置、電子ビーム露光装置校正方法、及び半導体素子製造方法 - 特許庁

ELECTRON-BEAM DRAWING DEVICE, ELECTRON-BEAM DRAWING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

電子線描画装置、電子線描画方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

ELECTRON GUN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING ELECTRON BEAM APPARATUS HAVING ELECTRON GUN例文帳に追加

電子銃及び電子銃を備えた電子線装置を用いた半導体デバイス製造方法 - 特許庁

DATA FORMING METHOD FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY DEVICE例文帳に追加

電子線露光用データ作成方法、電子線露光方法、半導体装置の製造方法及び電子線露光装置 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS, DEFLECTION AMPLIFIER, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY PROGRAM例文帳に追加

電子ビーム描画装置、偏向アンプ、電子ビーム描画方法、半導体装置の製造方法、及び電子ビーム描画プログラム - 特許庁

ELECTRON GUN, ELECTRON BEAM IRRADIATING DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE AS WELL AS OF PLANE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

電子銃、電子線照射装置、半導体装置の製造方法及び平面表示装置の製造方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD THEREWITH例文帳に追加

電子線装置及び該装置を用いた半導体デバイス製造方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

電子ビーム描画装置およびそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR DETECTING MARK AND MANUFACTURE OF ELECTRON BEAM DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マーク検出方法、電子線装置及び半導体デバイス製造方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM DEVICE AND PRODUCING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

電子線装置及び該電子線装置を用いた半導体デバイス製造方法 - 特許庁

MULTI-BEAM DETECTOR, ELECTRON BEAM DEVICE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD USING THE DEVICE例文帳に追加

マルチビーム検出器、電子線装置、及び該装置を用いた半導体デバイス製造方法 - 特許庁

RETICLE, ELECTRON BEAM EXPOSURE APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

レチクル、電子線露光装置及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM DRAWING APPARATUS AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURED BY IT例文帳に追加

電子ビーム描画装置及びそれを用いて作製された半導体デバイス - 特許庁

ELECTRON BEAM EXPOSURE SYSTEM AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

電子ビーム露光装置及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

SOURCE WAFER FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

電子ビーム露光用ソースウエハ及びそれを用いた半導体製造装置 - 特許庁

DATA GENERATING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ELECTRON-BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

半導体装置のデータ作成方法、および電子線露光システム - 特許庁

ELECTRON BEAM ALIGNER, EXPOSURE METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

電子ビーム露光装置、露光方法、及び半導体素子製造方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM MASK AND METHOD OF FORMING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

電子ビームマスク及びこれを用いた半導体素子の形成方法 - 特許庁

MASK FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

電子線露光用マスクとそれを用いた半導体装置製造方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM EXPOSURE/TRANSFER SYSTEM AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

電子線露光転写装置及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR INSPECTION METHOD, AND DEVICE TAKING EFFECTS OF ELECTRON BEAM INTO CONSIDERATION例文帳に追加

電子線の影響を考慮した半導体検査方法及び装置 - 特許庁

ELECTRON BEAM DRAWING APPARATUS, ELECTRON BEAM DRAWING METHOD, ELECTRONIC BEAM DRAWING PROGRAM, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING DIRECT DRAWING SYSTEM例文帳に追加

電子ビーム描画装置、電子ビーム描画方法、電子ビーム描画プログラム及び直接描画方式を用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM EXPOSURE DEVICE, METHOD FOR MEASURING DISTORTION OF AND CORRECTING DEFLECTED POSITION OF ELECTRON BEAM, AND SEMICONDUCTOR WAFER AND EXPOSURE MASK例文帳に追加

電子線露光装置、電子ビームの偏向位置の歪み測定方法、電子ビームの偏向位置補正方法、半導体ウエハ及び露光マスク - 特許庁

SAMPLE EVALUATING DEVICE USING ELECTRON BEAM AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE BY USING THIS DEVICE例文帳に追加

電子ビームを用いた試料評価装置及び該装置を用いた半導体デバイス製造方法 - 特許庁

To improve a process margin for field connection to increase manufacturing yields in a data forming method for electron beam lithography, an electron beam lithography method, a method of manufacturing a semiconductor device, and an electron beam lithography device.例文帳に追加

電子線露光用データの作成方法、電子線露光方法、半導体装置の製造方法及び電子線露光装置に関し、フィールド接続に伴うプロセスマージンを向上して製造歩留りを向上させる。 - 特許庁

PATTERN TEST DEVICE USING ELECTRON BEAM, AS WELL AS MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

電子ビームを用いたパターン検査装置、並びに、それを用いた半導体デバイス製造方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING ELECTRON BEAM DEVICE, MANUFACTURE THEREOF AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

電子線装置の較正方法、電子線装置及び半導体デバイス製造方法 - 特許庁

The converged electron beam 2 allowed to irradiate a semiconductor device 1 from a transmission electron microscope 4 transmits through the semiconductor device 1 as transmitted electron beam 3 to be allowed to be incident on a magnetic field deflecting type energy filter 7 through a slit 5.例文帳に追加

透過型電子顕微鏡４から半導体装置１に照射された収束電子線２は、透過電子線３として半導体装置１を透過し、スリット５を介して磁場偏向型エネルギーフィルタ７に入射される。 - 特許庁

To provide an electron beam lithography apparatus which can compensate the drawing position with high accuracy, a deflection amplifier, an electron beam lithography method, a method for manufacturing a semiconductor device, and an electron beam lithography program.例文帳に追加

高精度な描画位置補正を行なうことのできる電子ビーム描画装置、偏向アンプ、電子ビーム描画方法、半導体装置の製造方法、及び電子ビーム描画プログラムを提供すること。 - 特許庁

To provide an electron source which is used for a semiconductor wafer inspection device such as a scanning or transmission electron microscope, a surface analyzer like an Auger electron spectroscopic analyzer, an electron beam exposure apparatus, especially a scanning electron microscope using an electron beam accelerated with low voltage of 1 kV or less, a CD SEM, or a DRSEM.例文帳に追加

走査型又は透過型電子顕微鏡、オージェ電子分光装置等の表面分析装置、電子線露光機、特に、電子ビームの加速電圧が１ｋＶ以下の低加速で用いられる走査型電子顕微鏡、ＣＤ ＳＥＭ、ＤＲＳＥＭ等の半導体ウェハ検査装置に用いられる電子源を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR EXPOSING TO ELECTRON BEAM, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR PROCESSING EXPOSURE PATTERN DATA, AND PROGRAM例文帳に追加

電子ビーム露光方法、半導体装置、露光パターンデータ処理方法およびプログラム - 特許庁

METHOD OF CORRECTING PROXIMITY EFFECTS IN ELECTRON BEAM EXPOSURE, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

電子線露光における近接効果補正方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, METHOD OF EXPOSING HOLE PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

電子線描画装置、ホールパターンの露光方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MASK AS WELL AS MANUFACTURING METHOD FOR THEM例文帳に追加

電子ビーム描画装置、半導体装置およびマスク並びにそれらの製造方法 - 特許庁