exhaust contaminantとは 意味・読み方・使い方

To provide semiconductor substrate cleaning equipment which cleans a semiconductor substrate so that contaminant which is exfoliated by cleaning does not stick again and can exhaust contaminant etc. which remains into cleaning liquid of a treatment tank upper part.例文帳に追加

洗浄により剥離された汚染物質が再付着することないよう半導体基板を洗浄するとともに、処理槽上部の洗浄液中に滞留する汚染物質等を排出可能な半導体基板洗浄装置を提供する。 - 特許庁

The contaminant is removed from the exhaust gas to generate a processing gas (once-used argon gas) and the processing gas is supplied to the processing space 41a.例文帳に追加

また、排気ガスから汚染物質を除去することで処理ガス（一度使用されたアルゴンガス）が生成され、処理空間４１ａに供給される。 - 特許庁

SYSTEM FOR COLLECTION OF SAMPLE AS SPECIFIC CONTAMINANT IN DILUTED EXHAUST GAS FROM THERMAL ENGINE例文帳に追加

熱的エンジンからの稀釈された排気ガスの中の特定汚染物質の試料を採取するためのシステム - 特許庁

To effectively remove a contaminant included in gas without increasing an amount of an adsorbent exposed to the gas such as an exhaust gas or the like.例文帳に追加

排気ガス等のガスに曝す吸着材量を増加させずに、当該ガス中に含まれる汚染物質を効果的に除去する。 - 特許庁

Thereby, infiltration of any contaminant into the fuel cell stack 12 through the exhaust pipe 14 is inhibited.例文帳に追加

これにより、排気管１４を通して燃料電池スタック１２内に汚染物質が侵入すること防止する。 - 特許庁

To achieve favorable performance, low fuel consumption and the reduction of a contaminant in exhaust gas in an internal combustion engine.例文帳に追加

内燃機関において良好な性能、低燃費、排気中の汚染物質の低減を達成できるようにする。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for treating an organic contaminant for cleaning exhaust gas discharged from a thermal decomposing apparatus for decomposing the organic contaminant by surely removing an organic compound and a halogenated organic compound contained in the exhaust gas.例文帳に追加

有機汚濁物質を分解する加熱分解装置から排出されるガス中の有機化合物や有機ハロゲン化合物を確実に除去し、排ガスの清浄化を図ることができる有機汚濁物質処理装置及び有機汚濁物質処理方法を提供すること。 - 特許庁

Thus, a contaminant generated by electron beam radiation to the substrate W is exhausted into an outer space of a processing space 41a together with the argon gas as exhaust gas to prevent the contaminant from being re-adhered to the substrate surface and from being dispersed into the whole of the processing space 41a.例文帳に追加

このため、基板Ｗへの電子ビーム照射によって発生する汚染物質がアルゴンガスと一緒に排気ガスとして処理空間４１ａの外側空間に排気され、基板表面への汚染物質の再付着や処理空間４１ａ全体への汚染物質の拡散が防止される。 - 特許庁