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exposure characteristicsとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 露光特性
「exposure characteristics」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 343件
To match exposure characteristics among plural exposure devices with higher precision.例文帳に追加
複数の露光装置間の露光特性をより高精度に合わせる。 - 特許庁
A dynamic exposure correction portion 428 corrects the exposure according to the characteristics of the recovery filter.例文帳に追加
動的露出補正部428は、回復フィルタの特性に応じて露出量を補正する。 - 特許庁
To provide an exposure device which can suppress the degradation of exposure accuracy by the optical characteristics of liquid.例文帳に追加
液体の光学特性による露光精度の劣化を抑制できる露光装置を提供する。 - 特許庁
METHOD OF MEASUREMENT, METHOD OF IMAGING CHARACTERISTICS ADJUSTMENT, METHOD OF EXPOSURE, AND METHOD OF MANUFACTURING EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加
計測方法、結像特性調整方法、露光方法及び露光装置の製造方法 - 特許庁
To highly accurately measure imaging characteristics in a projection optical system, in particular, angle characteristics of exposure light.例文帳に追加
投影光学系の結像特性、特に露光光の角度特性を高精度に測定する。 - 特許庁
Hence, the relation and correlation between the characteristics and the prescribed action of the exposure device, namely, the dependency of the characteristics to the action of the exposure device is detected.例文帳に追加
従って、その特性と露光装置の所定の動作との関係、相関、すなわち、その特性のその動作への依存性を検出することができる。 - 特許庁
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「exposure characteristics」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 343件
METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING OPTICAL CHARACTERISTICS, AND METHOD AND APPARATUS FOR EXPOSURE例文帳に追加
光学特性計測方法及び装置、並びに露光方法及び装置 - 特許庁
OPTICAL CHARACTERISTICS MEASURING METHOD, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
光学特性計測方法、露光方法及びデバイス製造方法 - 特許庁
OPTICAL CHARACTERISTICS ADJUSTING METHOD, EXPOSURE METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加
光学特性調整方法、露光方法、及びデバイス製造方法 - 特許庁
To provide exposure equipment and an exposure method, of which the changes in OPE characteristics caused by an exposure parameter of projection exposure equipment are optimized, by controlling the phase difference between two polarization of illumination light, and approach ideal OPE characteristics.例文帳に追加
投影露光装置の露光パラメータに起因するOPE特性の変化を、照明光の２つの偏光間の位相差を制御することにより最適化し、理想のOPE特性に近づける露光装置および露光方法を提供する。 - 特許庁
The characteristics of a gamma-processing circuit is switched at any time with the long-period exposure signal, and the short-period exposure signal to perform processing suited to each exposure to combine long-period exposure signals and short-period exposure signals.例文帳に追加
ガンマ処理回路の特性を、長時間露光信号と短時間露光信号で随時切替え、各々の露光に適した処理を行い、長時間露光信号と短時間露光信号の合成を行う。 - 特許庁
The exposure amount at the time of the first scanning exposure and second scanning exposure is set so as to be half the proper exposure amount corresponding to the sensitivity characteristics of a photoresist applied to the wafer.例文帳に追加
第１走査露光時と第２走査露光時の露光量はウエハに塗布されたフォトレジストの感度特性に応じた適正露光量の１／２とする。 - 特許庁
To provide an exposure controller for a camera and an exposure control method for the camera, capable of controlling so that target exposure characteristics can be easily obtained while coping with mechanical exposure deviation with a small data storage capacity.例文帳に追加
少ないデータ記憶容量で機械的露出偏差に対応し狙いの露出特性を容易に得る制御を行ない得るカメラの露出制御装置とその露出制御方法を提供する。 - 特許庁
To provide an exposure device that adjusts a polarization direction, illuminance, a wavelength of an emission line, and an extinction ratio using a polarizing exposure means, and an exposure method that provides gradation by controlling phase difference characteristics of R, G, and B pixels, using the exposure device.例文帳に追加
偏光露光手段を用いて、偏光方向、照度、輝線の波長、消光比を調整できる露光装置とともに、それを用いて、Ｒ、Ｇ、Ｂ各画素の位相差特性を制御して諧調を出す露光方法を提供する。 - 特許庁
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