film stripperとは 意味・読み方・使い方

Thickness of the dry film is 20-50 μm, and the film stripping processing is performed by applying liquid stripper consisting of amine system solution at temperature of 40-70°C to the printed circuit board.例文帳に追加

ドライフィルムの厚みは２０〜５０μｍであり、かつ剥膜処理は、温度４０〜７０℃のアミン系水溶液からなる剥膜液を上記プリント配線板に施すことにより行う。 - 特許庁

Further, a plurality of pins for suppressing a flow of the film toward the liquid discharge port by entwining them with the film contained in the stripper are stood on the internal bottom surface of the gutter member 22.例文帳に追加

また、樋部材２２の内底面には、剥離液中に含まれる被膜を絡ませることにより排液口側への被膜の流動を抑制する複数のピンが立設されている。 - 特許庁

The semiconductor device manufacturing method of the present invention comprises the steps of forming a resist mask having an opening on a substrate, causing a portion on the substrate exposed through the opening to be subjected to predetermined treatment, removing the resist mask by using a stripper including allylsulfonic acid, removing residual materials of the stripper by using a rinse agent and forming a film on the substrate.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、基板上に開口を有するレジストマスクを形成する工程と、該基板のうち該開口により露出した部分に所定の処理を施す工程と、アリールスルホン酸を含む剥離液を用いて該レジストマスクを剥離する工程と、リンス液を用いて該剥離液の残渣を除去する工程と、該基板上に膜を形成する工程と、を備える。 - 特許庁

To provide a resist stripper which can remove a resist after a tin plating film is formed on copper without inducing re-precipitation of tin on copper.例文帳に追加

銅上にすずめっき被膜を形成した後に、銅上へのすず再析出を生じさせることなくレジストを剥離することが可能なレジスト剥離剤を提供する。 - 特許庁

The resist stripper 12 is thus spread over entirely and to every corner of the substrate 1, and the burrs and residuals of the conductor film 9 are forcibly removed.例文帳に追加

このようにして、基板１上の全面に亘って、またその隅々にまで、レジスト剥離液１２を行き渡らせると共に、導体膜９のバリや残滓などを強力に除去する。 - 特許庁

On an upper portion of the die block 32, an air stripper plate 51 provided with small jet orifices 50 jetting air current to the film 15 is attached to be integral with the die block 32.例文帳に追加

ダイブロック３２の上方には、フイルム１５へ向かって気流を噴射する噴射小孔５０を設けたエアストリッパプレート５１がダイブロック３２と一体になって取り付けられている。 - 特許庁

Preferably, process (ii) is carried out in a static mixer, and process (iii) is carried out in a thin film stripper 24, an extruder or a co-rotating processor 34.例文帳に追加

好ましくは、工程（ｉｉ）はスタティックミキサー中で実行され、工程（ｉｉｉ）は薄膜ストリッパー、押出機または同時回転プロセッサー中で実行される。 - 特許庁

To provide a composition for a resist stripper capable of rapidly removing photosensitive materials, such as a photoresist and dry film resist, without causing the residue of removal to remain on a substrate and a removing method using the composition.例文帳に追加

フォトレジスト、ドライフィルムレジスト等の感光性材料に対して、基体に剥離残渣を残さず迅速に剥離することができるレジスト剥離液用組成物およびこの組成物を用いた剥離方法を提供する。 - 特許庁