gettering techniqueとは 意味・読み方・使い方

To provide a silicon wafer for a semiconductor device, having high gettering performance by improving a gettering method as a technique for removing heavy metal impurities badly influencing a device operation, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

デバイス動作に悪影響を及ぼす重金属不純物を除去する技術であるゲッタリング方法を改良し、高いゲッタリング能力を持った半導体デバイス用シリコン単結晶ウェーハ及びその作製法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device using gettering technique for improving the yield of the semiconductor device by gettering contaminations generated by Cu etc. introduced during film-thinning processing such as MCP and SIP.例文帳に追加

ＭＣＰやＳＩＰなどでの薄厚加工時に導入されるCu等による汚染をゲッタリングして、半導体デバイスの歩留まりを向上させるためのゲッタリング技術を用いた、半導体デバイスの製造方法の提供。 - 特許庁

This technique is characterized in that a rare gas element-doped impurity region is formed in a semiconductor film having a crystal structure and a gettering for making a metallic element being comprised in the semiconductor film segregate in the impurity region is performed by a heating treatment or a strong light irradiation.例文帳に追加

本発明は結晶構造を有する半導体膜に、希ガス元素を添加した不純物領域を形成し、加熱処理または強光照射により前記不純物領域に半導体膜に含まれる金属元素を偏析させるゲッタリングを行うことを特徴としている。 - 特許庁