gettering effectとは 意味・読み方・使い方

To manufacture an epitaxial wafer reduced in epitaxial flaw density and excellent in intrinsic gettering effect.例文帳に追加

エピタキシャル欠陥密度を低減し、優れたＩＧ効果を発揮するエピタキシャルウェーハを製造することができる。 - 特許庁

Since the SOI layer 13 is adjoined, the gettering effect of the oxygen precipitation layer 14 can be raised.例文帳に追加

ＳＯＩ層１３と隣接するので、酸素析出層１４のゲッタリング効果を高めることができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing semiconductor device suitable for mass production, without having to increase crystal defects and which is capable of carrying out gettering with better gettering effect.例文帳に追加

結晶欠陥を増大させること無く量産に適し、且つ、ゲッタリング効果の優れたゲッタリングを行うことができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an epitaxial wafer and a method of manufacturing the same capable of easily manufacturing an epitaxial wafer with a gettering layer contacting an epitaxial film, and providing a high gettering effect.例文帳に追加

エピタキシャル膜にゲッタリング層が接したエピタキシャルウェーハを容易に作製することができ、高いゲッタリング効果が得られるエピタキシャルウェーハおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To produce a gettering effect in the inside apart from the epitaxial layer surface without increasing the required man-hour.例文帳に追加

作業工数を増加させることなく、エピタキシャル層の表面から離れた内部にゲッタリング効果を生じさせる。 - 特許庁

To provide a wafer grinding method capable of maintaining a gettering sink effect and decreasing a metal atom such as copper (Cu) contained in a wafer, assuring flexural strength.例文帳に追加

ゲッタリングシンク(gettering sink)効果を維持するとともに抗折強度を確保しつつウエーハの内部に含有している銅（Cu）等の金属原子を減少させることができるウエーハの研削方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor substrate which makes it possible to obtain a sufficient gettering effect in a semiconductor device manufacturing process.例文帳に追加

半導体装置の製造工程において、十分にゲッタリング効果を得ることができる半導体基板を提供する。 - 特許庁

To obtain an ingot having no point defect agglomerates and exhibiting intrinsic gettering(IG) effect when formed into a wafer.例文帳に追加

点欠陥の凝集体が存在しないことに加えて、シリコンウェーハにした場合にＩＧ効果を有するインゴットを得る。 - 特許庁