gettering processとは 意味・読み方・使い方

To provide an obtained semiconductor device with a gettering function, without applying a special process to a semiconductor wafer and a chip.例文帳に追加

半導体ウエハ、チップに特別な処理を施すことなく、得られる半導体装置にゲッタリング機能を付与すること。 - 特許庁

To improve the quality of an oxide film without using a process for forming a gettering layer in a semiconductor device using a SOI substrate.例文帳に追加

ＳＯＩ基板を用いた半導体装置において、ゲッタリング層を形成する工程を用いずに、酸化膜の品質を向上させる。 - 特許庁

To provide a laminating SOI substrate, capable of treating a metal dopant of SOI layer in gettering at heat treatment time in device process, and its manufacturing method.例文帳に追加

デバイス工程での熱処理時に、ＳＯＩ層の金属不純物をゲッタリング可能な貼合わせＳＯＩ基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an epitaxial silicon wafer which shows high gettering capability even in a device process in which low-temperature and short-term heat treatment is advanced.例文帳に追加

低温短時間熱処理化の進んだデバイスプロセスでも高いゲッタリング能力を発揮し得るエピタキシャルシリコンウェーハを実現する。 - 特許庁

To provide a semiconductor substrate which makes it possible to obtain a sufficient gettering effect in a semiconductor device manufacturing process.例文帳に追加

半導体装置の製造工程において、十分にゲッタリング効果を得ることができる半導体基板を提供する。 - 特許庁

To impart gettering capability to a semiconductor device which is made to be thin and has a reverse surface polished in a device post-process.例文帳に追加

デバイス後工程で薄型化され、且つ、裏面研磨された半導体デバイスにゲッタリング能力を付与する。 - 特許庁

To easily improve gettering effects while suppressing the complication of a manufacturing process.例文帳に追加

製造工程の煩雑化を抑制することを可能としつつ、ゲッタリング効果を容易に高めることができるようにする。 - 特許庁

To form an oxide film exhibiting "durability against etching liquid sufficient for protecting silicon films against etching" in dry process and having "such a film quality that impurities can migrate through the oxide film during a heating process for gettering so that the gettering is carried out without problems".例文帳に追加

ドライプロセスで「エッチングに十分耐えシリコン膜を保護することができる、エッチング液に対する耐性」及び「ゲッタリング処理を問題なく行うために、ゲッタリングのための加熱処理の際に、酸化膜中を不純物が移動できる膜質」を有する酸化膜を形成する。 - 特許庁