grating formationとは 意味・読み方・使い方

Intervals P1 to P7 of gratings G1 to G8 are made narrow at both the end parts ED of a grating formation part GF and made wider toward the center CE of the grating formation part.例文帳に追加

グレーティングＧ1〜Ｇ8のピッチＰ1〜Ｐ7をグレーティング形成部ＧＦの両端部ＥＤで狭く、グレーティング形成部の中央ＣＥに行くにしたがってグレーティングのピッチを広くする。 - 特許庁

Then, similarly, grating 20i (i=2-N) is subsequently manufactured by the hydrogen addition process 1, grating formation process and heating process.例文帳に追加

以降同様に、水素添加工程、グレーティング形成工程および加熱工程によりグレーティング２０_i（ｉ＝２〜Ｎ）を順次に作製する。 - 特許庁

In the diffraction grating layer 30, a diffraction grating formation region 31, in which an uneven diffraction grating 33 is formed, and a diffraction grating non-formation region 32, in which the diffraction grating 33 is not formed, are formed by turns periodically in a range affected by an evanescent field of the stimulated emission light, which is subjected to wave guide in the active layer 40.例文帳に追加

そして、回折格子層３０において、活性層４０を導波される誘導放出光のエバネセント場の及ぶ範囲内に、凹凸の回折格子３３が形成された回折格子形成領域３１と、前記回折格子３３が形成されていない回折格子非形成領域３２とが、交互に周期的に形成されている。 - 特許庁

By emitting an ultraviolet light to a grating forming part in advance or after the formation of the grating, the refractive index modulation can be realized using only the area where the change in the induced refractive index at the time of grating formation is proportional to the irradiation time of the ultraviolet light.例文帳に追加

グレーティングを形成する部分に予め紫外光を照射しておくか、グレーティング形成後に紫外光を照射することにより、グレーティング形成時の誘起屈折率変化が紫外光の照射時間に比例する領域のみを使用して屈折率変調を実現することができる。 - 特許庁

To provide a diffraction grating formation method, diffraction grating and optical semiconductor element, capable of manufacturing diffraction gratings having different heights, by a small number of processes.例文帳に追加

本発明は、工程数の少ないプロセスによって、高さの異なる回折格子を作製できる、回折格子の形成方法、回折格子及び光半導体素子を提供する。 - 特許庁

The hydrogen addition processes can be provided only before the respective grating formation processes of at least two gratings.例文帳に追加

何れか２以上のグレーティングそれぞれのグレーティング形成工程の前に水素添加工程を設けるだけでもよい。 - 特許庁

To provide a spectroscopic module stabilizing the formation of a diffraction grating pattern, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

回折格子パターンの形成を安定化させることができる分光モジュール及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A resist is coated on an SiO_2 film 63, and then a resist pattern 64 for a mask for diffraction-grating formation is formed (c).例文帳に追加

ＳｉＯ_２膜６３上にレジストを塗布した後に回折格子作製マスク用のレジストパターン６４を作製する（ｃ）。 - 特許庁