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helicon wave plasmaとは 意味・読み方・使い方
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該当件数 : 10件
HELICON WAVE PLASMA DEVICE AND HELICON WAVE PLASMA PROCESSING METHOD例文帳に追加
ヘリコン波プラズマ装置及びヘリコン波プラズマ処理方法 - 特許庁
When a magnetic field is generated by a magnetic field generating coil 46, while a helicon wave excitation electrical field is applied to the antenna 34, a helicon wave plasma is generated in the source chamber 24.例文帳に追加
磁場発生コイル４６で磁場を発生させるとともに、アンテナ３４にヘリコン波励起電場を印加すると、ソースチャンバー２４の内部にヘリコン波プラズマが発生する。 - 特許庁
A target is sputtered with helicon wave excited plasma, and an epitaxial growth is carried out on a substrate that plasma does not reach.例文帳に追加
ヘリコン波励起プラズマによりターゲットをスパッタし、プラズマの到達しない基板上へエピタキシャル成長を行う。 - 特許庁
In this plasma treatment device, performing plasma treatment by introducing helicon waves into a workpiece W arranged inside a treatment vessel 14, the inside of each of vacuum vessels 11a and 11b for generating the helicon wave is divided into a plurality of sections by means of a wall face parallel to a magnetic field direction 20.例文帳に追加
処理容器１４内に配置されている被処理物Wにヘリコン波を導入することによりプラズマ処理を行うプラズマ処理装置において、ヘリコン波が発生する真空容器１１a、１１ｂの内部を磁場の方向２０と平行な壁面により複数に分割するプラズマ処理装置。 - 特許庁
A helicon-wave plasma is used as a plasma source in a plasma doping method, where a material is introduced in the vicinity of the surface of a material to be treated using a plasma.例文帳に追加
プラズマを用いて物質を被処理物の表面近傍に導入するプラズマドーピング方法において、プラズマ源としてヘリコン波プラズマを用いる。 - 特許庁
To generate plasma in a large area, to clarify the plasma boundary end face and to allow the position selection of a process material such as a substrate in a plasma generator exciting the wave motion of the helicon wave or slow wave propagating along the external magnetic field shown by the magnetic lines of force on the antenna side with an antenna.例文帳に追加
アンテナ側磁力線９で示す外部磁場に沿って伝播するヘリコン波やスロー波等の波動をアンテナ３で励起するプラズマ発生装置において、プラズマ６を大面積化し、プラズマ境界端面を明確化し、基板等の処理材料１１の位置選択を可能にすること。 - 特許庁
A helicon-wave plasma etching apparatus 1 is provided with a processing chamber 2 to etch a wafer 50 by plasma, wherein a stage 3 is provided.例文帳に追加
ヘリコン波プラズマエッチング装置１では、ウェハ５０にプラズマエッチング処理を施すための処理室２が設けられ、その処理室２内にステージ部３が配設されている。 - 特許庁
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「helicon wave plasma」の部分一致の例文検索結果
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To provide a substrate cleaning apparatus for efficiently cleaning a cleaned place by obliquely irradiating a substrate with Helicon wave plasma.例文帳に追加
本発明は、基板に対してヘリコン波プラズマを斜めから照射して洗浄箇所を効率的に洗浄できるようにした基板洗浄装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁
An orifice 25 is bored by means of oxygen plasma 33 using a helicon wave etching system and O2 gas for processing and a Ti oxide film 32-2 is formed, as a hydrophilic region 28, on the surface of the Ti film 32.例文帳に追加
ヘリコン波エッチング装置と処理用Ｏ_2 ガスを用い、酸素プラズマ３３によるオリフィス２５の孔空けを行なうと共にＴｉ膜３２表面に酸化Ｔｉ膜３２−２を形成し、これを親水性領域２８とする。 - 特許庁
The material gas is preferably supplied in the form of high density plasma excited by electron beam excited plasma method, high frequency parallel plate plasma method, high frequency plasma method employing rudder-like discharge electrodes, electron cyclotron resonance plasma method, induction coupling plasma method, or helicon wave plasma method.例文帳に追加
原料ガスはプラズマ化して供給することが望ましく、プラズマの励起法としては電子ビーム励起プラズマ法、高周波平行平板プラズマ法、ラダー状の放電電極を用いた高周波プラズマ法、電子サイクロトロン共鳴プラズマ法、誘導結合型プラズマ法あるいはヘリコン波プラズマ法等の高密度プラズマを用いることを特徴とする。 - 特許庁
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