homogeneous systemとは 意味・読み方・使い方

SUPPORTED POLYMERIZATION CATALYTIC SYSTEM AND ITS USE FOR HOMOGENEOUS POLYMERIZATION AND COPOLYMERIZATION OF UNSATURATED MONOMER例文帳に追加

担持重合触媒系および不飽和単量体の均質重合および共重合に対するその使用 - 特許庁

In a further improvement, the ATRP process includes a polymerization in the presence of a homogeneous system or a solubilized initiating catalytic system.例文帳に追加

更なる改良において、ＡＴＲＰプロセスは、均一なシステム又は可溶化された開始触媒システムの存在中での重合を含む。 - 特許庁

To provide a method for synthesizing a star polymer, which promotes a reaction homogeneous in the whole reaction system.例文帳に追加

反応系全体に亘る均一な反応の進行を図ることができるスターポリマーの合成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a vapor deposition system capable of forming an emitter of homogeneous quality over the whole body of a substrate correspondingly to a large-sized substrate.例文帳に追加

大型基板に対応して基板全体で均等な品質のエミッタを形成し得る蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To dispense with dedicated data for determining pumping loss during a delay period in a case when the control parameter of a fuel system and an ignition system is switched from the stratified charge combustion to the homogeneous combustion, after the control parameter of an intake system is switched from the stratified charge combustion to the homogeneous combustion.例文帳に追加

吸気系の制御パラメータを成層燃焼から均質燃焼に切り替えてから遅延期間後に燃料系と点火系との制御パラメータを成層燃焼から均質燃焼に切り替える場合、遅延期間中のポンピング損失を求めるための専用データを不要とする。 - 特許庁

The catalyst system can be used for a homogeneous system catalyst or a heterogeneous system catalyst and especially useful for a catalytic reaction of oxidation or oximation.例文帳に追加

この本発明による触媒系は均一系触媒としても不均一系触媒としても使用でき、殊に、酸化反応又はオキシム化反応の触媒反応のために使用できる。 - 特許庁

A user device (UE) is connected to a homogeneous and/or heterogeneous access system in an environment where a plurality of access systems are interlocked with one another.例文帳に追加

複数のアクセスシステムが連動する環境にて、同種および／または異種のアクセスシステムに接続するユーザ装置（ＵＥ）。 - 特許庁

Then, a control system for an injection system and an ignition system is switched from the control system in the stratified charge combustion to the control system in the homogeneous charge combustion, after a lag time (T1+T2) set variably based on the limit control correction value C passes.例文帳に追加

その後、リミット制御補正量Ｃに基づき可変設定される遅延時間（Ｔ１＋Ｔ２）が経過した後に噴射系及び点火系の制御方式を成層燃焼での制御方式から均質燃焼での制御方式へと切り替える。 - 特許庁