insulating filmsとは 意味・読み方・使い方

The semiconductor device 1 includes a semiconductor substrate 10, a group of interlayer insulating films 20 (a first group of interlayer insulating films), a group of interlayer insulating films 30 (a second group of interlayer insulating films), and a seal ring 40 (guard ring).例文帳に追加

半導体装置１は、半導体基板１０、層間絶縁膜群２０（第１の層間絶縁膜群）、層間絶縁膜群３０（第２の層間絶縁膜群）、およびシールリング４０（ガードリング）を備えている。 - 特許庁

The gate insulating film 25 of the varactor 20 is thicker than the gate insulating films 15 and 75.例文帳に追加

バラクタ２０のゲート絶縁膜２５は、ゲート絶縁膜１５，７５よりも厚い。 - 特許庁

To form the magnetic films to be formed on coil insulating films with high-accuracy patters.例文帳に追加

コイル絶縁膜の上に形成される磁性膜を、高精度のパターンで形成する。 - 特許庁

The polysilicon films 10 are formed on first sections in element-isolation insulating films 2.例文帳に追加

ポリシリコン膜１０は、素子分離絶縁膜２の第１部分上に形成されている。 - 特許庁

To reduce stress to be applied to wiring layers and inter-layer insulating films in a manufacturing process of a semiconductor device using low dielectric insulating films as the inter-layer insulating films.例文帳に追加

低誘電率絶縁膜を層間絶縁膜として用いた半導体装置の製造工程において、配線層および層間絶縁膜に作用する応力を低減する。 - 特許庁

The insulating films 1 to 5 of the multiple layers include the inner insulating films 2 and 3 having photoconductivity in contact with the semiconductor thin film SL, and the outer insulating films 1 and 4 superposed thereon.例文帳に追加

この多層の絶縁膜１〜５は、半導体薄膜ＳＬに接して導光性のある内側絶縁膜２，３とこれに重なる外側絶縁膜１，４とを含む。 - 特許庁

On insulating films in which wiring 20 as lower layer wiring is embedded, insulating films 21-28 including insulating films 22, 25 composed of low dielectric constant materials are formed.例文帳に追加

下層配線としての配線２０が埋め込まれた絶縁膜上に、低誘電率材料からなる絶縁膜２２および２５を含む絶縁膜２１〜２８を形成する。 - 特許庁

Insulating films 11, 13, and 15 cover the semiconductor substrate.例文帳に追加

絶縁膜１１、１３、１５は、半導体基板を覆う。 - 特許庁