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interface oxideとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 界面酸化物
「interface oxide」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 475件
METHOD OF MANUFACTURING INTERFACE BETWEEN OXIDE FILM/ SILICON CARBIDE例文帳に追加
酸化膜／炭化珪素界面の作製法 - 特許庁
To reduce an interface level without damaging a gate oxide film and an interface between the gate oxide film and a semiconductor substrate.例文帳に追加
ゲート酸化膜やゲート酸化膜と半導体基板の界面にダメージを与えることなく、界面準位の低減を図る。 - 特許庁
Further, a mixed region is provided on an interface between the oxide semiconductor layer and the silicon oxide layer.例文帳に追加
また、酸化物半導体層と酸化シリコン層の界面に混合領域を設ける。 - 特許庁
That is, by making the silicon oxide film contain Kr in it, stresses are relaxed in the silicon oxide film and the interface between the silicon oxide and a silicon.例文帳に追加
本発明のシリコン酸化膜は、シリコン酸化膜中にＫｒを含有することを特徴とする。 - 特許庁
The oxide-layer/substrate interface is relatively pristine and defect-free.例文帳に追加
酸化層／基板界面は比較的にプリスチンであり、欠陥がない。 - 特許庁
The breakdown of an interface oxide film of a polysilicon/silicon interface is accelerated, and emitter parasitic resistance is reduced.例文帳に追加
ポリシリコン／シリコン界面の界面酸化膜の破壊が促進され、エミッタ寄生抵抗が低減される。 - 特許庁
An oxide Mo layer is formed on an interface between the Mo layer and the Si layer.例文帳に追加
Ｍｏ層とＳｉ層の界面に酸化Ｍｏ層を形成する。 - 特許庁
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「interface oxide」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 475件
INTERFACE STRUCTURE OF OXIDE THIN FILM AND FORMING METHOD THEREFOR, AND THIN-FILM TRANSISTOR例文帳に追加
酸化薄膜の界面構造とその形成方法、及び薄膜トランジスタ - 特許庁
METHOD FOR FORMING INTERFACIAL OXIDE LAYER ON INTERFACE OF SEMICONDUCTOR/DIELECTRIC例文帳に追加
半導体／誘電体の界面に面間酸化物層を形成する方法 - 特許庁
To reduce degradation of image quality caused by interface state occurrence of oxide film interface, by means of CMP (Chemical Mechanical Polishing).例文帳に追加
ＣＭＰ（化学機会研磨）による、酸化膜界面の界面準位発生による画質低下を低減する。 - 特許庁
To decrease a density of an interface state formed in an interface between silicon carbide semiconductor layer and a silicon oxide layer.例文帳に追加
炭化珪素半導体層と酸化珪素層の界面に形成される界面準位の密度を小さくする。 - 特許庁
METHOD AND STRUCTURE FOR IMPROVING OXIDE/SILICON-NITRIDE INTERFACE SUBSTRUCTURE例文帳に追加
酸化物／窒化シリコン界面サブストラクチャを改善するための方法および構造 - 特許庁
The titanium oxide layer contains particles of anatase titanium oxide and the particles of titanium oxide bond to their adjacent particles of titanium oxide so that the crystal lattice of the bonded particles of titanium oxide is matched at an interface between the particles.例文帳に追加
酸化チタン層は、アナターゼ型酸化チタン粒子を含み、隣接する酸化チタン粒子が結合し、結合した酸化チタン粒子の結晶格子が粒子間の界面にて整合している。 - 特許庁
The first gate insulated film 8 is a silicon oxide film as a underlying interface layer.例文帳に追加
第１のゲート絶縁膜８は、下地界面層としてのシリコン酸化膜である。 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR STRUCTURE HAVING METAL OXIDE INTERFACE WITH SILICON例文帳に追加
シリコンとの金属酸化物インタフェースを備える半導体構造の作成方法 - 特許庁
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