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interferometer systemsとは 意味・読み方・使い方
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「interferometer systems」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
The lithographic apparatus further includes X, Y and Z interferometer measurement systems, and an object support positioning system configured to position the object support in a number of degrees of freedom on the basis of measurements of the interferometer measurement systems.例文帳に追加
リソグラフィ装置は、さらに、X、Y及びZ干渉計測定システムと、干渉計測定システムの測定に基づいて対象物支持体を複数の自由度で位置決めする対象物支持体位置決めシステムとを有している。 - 特許庁
The retardation plate is fixed with an adhesive after it is determined in the direction of minimizing the polarization leakage of the interferometer systems.例文帳に追加
リターデーションプレートは、干渉計システムの偏光漏洩が小さくなる向きに定められた後、接着剤で固定される。 - 特許庁
The interferometer systems (200, 800) includes a plane mirror interferometer (230), a deflecting mirror (212), retardation plate assemblies (216, 816A) with retardation plates which can be fixed after adjustment, and retro-reflectors (214, 814).例文帳に追加
平面鏡干渉計(230)、転向ミラー(212)、調節後に固定することが出来るリターデーションプレートを有するリターデーションプレートアセンブリ(216、816A)およびレトロリフレクタ(214、814)を有する干渉計システム(200、800)。 - 特許庁
To prevent relative variations in the position measurement among a plurality of interference optical systems, in an interferometer system equipped with a plurality of interference optical systems used for position measurement on the same axial direction.例文帳に追加
同一軸方向の位置計測に用いられる複数の干渉光学系を備える干渉計システムにおいて、複数の干渉光学系の間での位置計測の相対変化を防止する。 - 特許庁
To get an interferometer system for wavefront measurement with high practicability, capable of easily adjusting optical systems in addition to be equipped with a compact optical system with easy configuration.例文帳に追加
構成簡易でコンパクトな光学系を備え、かつ光学系の調整を容易に行なうことが可能な実用性の高い波面測定用干渉計装置を得る。 - 特許庁
To provide a lithographic projection apparatus, in which interferometer systems 6, 8, 14, 15, and 16 have a capacity area, extending over a measurement station 4 and a exposure station 2, and a method.例文帳に追加
干渉計システム6、8、14、15、16が第1の測定ステーション4及び第2の露光ステーション2にわたって広がる能力範囲を有するリソグラフィ投影装置1及び方法。 - 特許庁
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「interferometer systems」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
By the exposure device, the position information on the measurement stage is measured by the interferometer system 118, and the position information of the wafer stage WST is measured by the encoder systems (70A-70F).例文帳に追加
このため、露光装置によると、干渉計システム118により計測ステージの位置情報が計測され、エンコーダシステム(70A〜70F)によってウエハステージWSTの位置情報が計測される。 - 特許庁
The interferometer system is equipped with a plurality of interference optical systems 25A and 25B used for the position measurement in the same axial direction and a spectroscopic system 51 breaking beams from a light source 50 into a plurality of beams parallel to each other, corresponding to a plurality of interference optical systems 25A and 25B.例文帳に追加
本発明の干渉計システムは、同一軸方向の位置計測に用いられる複数の干渉光学系25A,25Bと、複数の干渉光学系25A,25Bに対応して光源50からのビームを互いに平行な複数のビームに分ける分光光学系51とを備える。 - 特許庁
Out of an interferometer for measuring the position of the reticle stage RST, at least optical systems 23Y1, 23Y2 for branching a reference beam and a measurement beam are fixed on a reticle stage fixing board RBS whose vibration is suppressed by a vibration proofing unit 14.例文帳に追加
レチクルステージRSTの位置を計測する干渉計のうちの、少なくとも参照ビームと計測ビームとを分岐する光学系23Y1,23Y2を、防振ユニット14により振動が抑制されたレチクルステージ定盤RBSに固定する。 - 特許庁
This ensures that the interferometer system and its components can be positioned away from radiation beam, allowing larger diameter projection systems for radiation beam and more homogeneous air showers around an object.例文帳に追加
それにより確実に干渉計システム及びその部品を放射ビームから遠ざけて配置することができるので、放射ビームのための投影システムを直径がより大きい投影システムにすることができ、且つ、対象の周りのエア・シャワーをより均質にすることができる。 - 特許庁
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