low‐temperature deposition membraneの英語

The ITO deposition device is successively provided with an ITO deposition treatment part which forms an sputtering deposition ITO membrane by a low temperature method; a high frequency wave measuring part which measures the resistance or reactance of the sputtering deposition ITO membrane by the predetermined frequency in a high frequency AC four terminal method; and an annealing treatment part which applies annealing treatment on the sputtering deposition ITO membrane.例文帳に追加

順に、低温成膜法によりＩＴＯ膜をスパッタ成膜するＩＴＯ成膜処理部と、スパッタ成膜されたＩＴＯ膜について、高周波の交流４端子法により、所定の周波数でその抵抗およびまたはリアクタンスを測定する高周波測定部と、スパッタ成膜されたＩＴＯ膜をアニール処理するアニール処理部とを、備えている。 - 特許庁

To provide a soft-magnetic material which is provided with a high saturation magnetic flux density Bs, and also exhibits preferable soft-magnetic properties directly after membrane deposition or after a low temperature heat treatment.例文帳に追加

高い飽和磁束密度Ｂｓを備え、かつ成膜直後或いは低い熱処理後の状態において好ましい軟磁気特性を示す軟磁性材料を提供する。 - 特許庁

The hydrogen separation membrane is made by heat treatment for alloying after a process of making the porous ceramic support carry Pb by a low temperature metallorganic chemical vapor deposition method with a pressure difference between two ends of the support and a process for making the support carry a metal to be alloyed with Pb by using a solution having a metal source capable of forming an alloy with Pb.例文帳に追加

セラミックス多孔質支持体上に、支持体の両側に圧力差を設けた低温金属有機物化学的気相成長法によりＰｄを担持させる工程およびＰｄと合金を形成し得る金属源を含有する溶液を用いてＰｄと合金化し得る金属を担持させる工程を任意の順序で適用した後、合金化のための熱処理を行って水素分離膜を製造する。 - 特許庁