low density flowとは 意味・読み方・使い方

The linear low-density polyethylene used herein usually has 0.5-50 g/10 min melt flow rate, 0.910-0.940 g/cm^3 density and 9-25 MPa tensile strength.例文帳に追加

ここで用いられる直鎖状低密度ポリエチレンは、通常、メルトフローレートが０．５〜５０ｇ／１０分、密度が０．９１０〜０．９４０ｇ／ｃｍ^３および引張強度が９〜２５ＭＰａのものである。 - 特許庁

Therefore, when a circulation exhaust gas flow rate is low, the gas temperature in the intake pipe 34 is low, and the gas density in the intake pipe 34 is increased, thereby increasing the amount of suction gas.例文帳に追加

そのため、還流排気ガス流量が少ない場合には吸気管３４内のガス温度が低く、吸気管３４内のガス密度が上昇するので吸入ガス量が増加する。 - 特許庁

To cope with the exothermic density increase of an electronics module by raising the cooling capacity of the electronics module in low flow range, without increasing the flow of the refrigerant flowing in a cooling pipe.例文帳に追加

冷却管に流れる冷媒の流量を増加させることなく、低流量域でのエレクトロニクスモジュールの冷却性能を向上させ、エレクトロニクスモジュールの高発熱密度化に対応可能とするものである。 - 特許庁

A low-density polyethylene having a melt mass flow rate measured according to JIS K 6922-1 under conditions of 190°C and 2.16 kg load of 4-80 g/10 minutes is used in the pellet mixture comprising a cyclic olefin-based pellet and a low-density polyethylene pellet.例文帳に追加

環状オレフィン系樹脂ペレット及び低密度ポリエチレンペレットを含むペレット混合物において、ＪＩＳ Ｋ６９２２−１に従い、温度１９０℃、荷重２．１６Ｋｇの条件により測定されるメルトマスフローレートが４から８０ｇ／１０分である低密度ポリエチレンを用いる。 - 特許庁

This film for wrapping comprises a mixture comprising a linear low-density polyethylene having 0.905-0.935 g/cm^3 density and 0.1-3 g/10 min melt flow rate, and produced by using a metallocene catalyst, and a random polypropylene having 2-12 mass% ethylene content and ≤10 g/10 min melt flow rate.例文帳に追加

密度が０.９０５〜０.９３５ｇ／ｃｍ^３、メルトフローレートが０.１〜３ｇ／10分のメタロセン触媒による直鎖状低密度ポリエチレンと、エチレン含有量が２〜１２質量％でメルトフローレートが１０ｇ／10分以下のランダムポリプロピレンとを含有した混合物からなる包装用フィルム。 - 特許庁

To provide a continuous flow device and method that are highly effective in uniformly irradiating high optical density fluids having low radiation penetrations.例文帳に追加

低い放射線浸入度を有する高い光学密度の流体を均一に照射する際に極めて有効な、連続的なフローデバイスおよび方法を提供すること。 - 特許庁

Deep groundwater having a low temperature and high density is taken from an inlet 1 to flow into an air dissolution/mixing device 8, and air or oxygen is dissolved or mixed.例文帳に追加

低温且つ高密度な深層水を流入口１から取水し空気溶解・混合装置８に流入し、該装置８で空気または酸素を溶解または混入する。 - 特許庁

A method for depositing a low dielectric film, using an oxidizing plasma, comprises the steps of introducing oxygen at a flow rate of less than or equal to the flow rate of the organosilicon compounds, generating plasma at a power density ranging between 0.9 to about 3.2 W/cm2, and thereby depositing a film, having low moisture content and cracking resistance.例文帳に追加

有機シリコン化合物の流量以下の流量で酸素をチャンバの中に導入し、０．９Ｗ／ｃｍ^2から約３．２Ｗ／ｃｍ^2の出力密度でプラズマを生成することによって、低水分含有量およびクラッキング耐性を有する膜を堆積させる。 - 特許庁