methyl morpholineとは 意味・読み方・使い方

For example, in the case of the acrylamide derivative being acryloyl morpholine, contents of impurities, methyl 3-morpholinopropionate and 3-morpholinopropionic acid morpholide, are reduced by processing the acrylamide derivative with an adsorbent.例文帳に追加

たとえばアクリルアミド誘導体がアクリロイルモルホリンの場合、これを吸着剤で処理することにより、不純物である３−モルホリノプロピオン酸メチル、３−モルホリノプロピオン酸モルホリドの含量を低減する。 - 特許庁

To provide a method for obtaining 2-acetylaminomethyl-4-(4-fluorobenzyl)morpholine in a high yield and in high purity and then producing highly pure 4-amino-5-chloro-2-ethoxy-N-[[4-(4-fluorobenzyl)-2-morpholinyl]methyl]benzamide citrate dihydrate from the obtained 2-acetylaminomethyl-4-(4-fluorobenzyl)morpholine.例文帳に追加

２−アセチルアミノメチル−４−（４−フルオロベンジル）モルホリンを、高収率、高純度で得、得られた２−アセチルアミノメチル−４−（４−フルオロベンジル）モルホリンを使用して高純度の４−アミノ−５−クロロ−２−エトキシ−N−〔[４−（４−フルオロベンジル）−２−モルホリニル]メチル〕ベンズアミドクエン酸塩２水和物を製造する方法を提供する。 - 特許庁

This method for producing the 4-amino-5-chloro-2-ethoxy-N-[[4-(4-fluorobenzyl)-2-morpholinyl]methyl]benzamide includes a process for reacting 4-amino-5-choloro-2-ethoxybenzoic acid or its reactive derivative with 2-aminomethyl-4-(4-fluorobenzy)morpholine in the presence of a ketone-based solvent.例文帳に追加

４−アミノ−５−クロロ−２−エトキシ安息香酸またはその反応性誘導体と２−アミノメチルー４−（４−フルオロベンジル）モルホリンとをケトン系溶媒の存在下反応させる工程を含む４−アミノ−５−クロロ−２−エトキシ−Ｎ−［［４−（４−フルオロベンジル）−２−モルホリニル］メチル］ベンズアミドの製造方法。 - 特許庁

In this embodiment, the first and second liquid cannot be mixed substantially; and can respectively be cycloalkane such as cyclooctane, decalin, bicyclohexyl, exo-tetrahydro-dicyclopentadiene, and cyclohexane, other high index hydrocarbon, perfluoro-polyether such as perfluoro-N-methyl morpholine, perfluoro E2, perfluoro-alkane such as perfluoro-hexane, or hydro-fluoroether and water.例文帳に追加

実施例では、第１及び第２の液体は、実質的に混合することができず、それぞれ、シクロオクタン、デカリン、ビシクロヘキシル、エキソ−テトラハイドロ−ジシクロペンタジエン、及びシクロヘキサンのようなシクロアルカン、他の高指数炭化水素、パーフルオロ−Ｎ−メチルモルホリン及びパーフルオロＥ２のようなパーフルオロポリエーテル、パーフルオロヘキサンのようなパーフルオロアルカン、又はハイドロフルオロエーテル、及び水であってもよい。 - 特許庁

The heterocyclic compound having N-substituted amino group is one or two or more kinds selected from N-amino morpholine, 1-amine-4-methyl piperazine, N-amino hexa-methylene imine, 1-amino pyrrolidine, and 1-amino-piperidine, and the hydroxylamine compound is one or two or more kinds selected from hydroxylamine, N, N-diethylhydroxylamine, and N-isopropyl hydroxylamine.例文帳に追加

なお、Ｎ−置換アミノ基を有する複素環式化合物が、Ｎ−アミノモルホリン、１−アミン−４−メチルピペラジン、Ｎ−アミノヘキサメチレンイミン、１−アミノピロリジン、および１−アミノピペリジンよりから選ばれる１種または２種以上であり、ヒドロキシルアミン化合物が、ヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、およびＮ−イソプロピルヒドロキシルアミンよりから選ばれる１種または２種以上である。 - 特許庁

The semiconductor wafer polishing composition uses an active silic acid solution obtained by removing alkali from a silic acid alkaline solution, and colloidal silica formed of a nitrogen containing basic compound composed of one kind or more of ethylenediamine, diethylenediamine, imidazole, methyl imidazole, piperidine, morpholine, arginine, and hydrazine as main components, and contains a quaternary ammonium hydroxide, whereby pH at 25°C is prepared to 8.5-11.0.例文帳に追加

珪酸アルカリ水溶液からアルカリを除去して得られた活性珪酸水溶液と、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、イミダゾール、メチルイミダゾール、ピペリジン、モルホリン、アルギニンおよびヒドラジンのいずれか１種類以上である窒素含有塩基性化合物によって製造されるコロイダルシリカを主成分とし、水酸化第４アンモニウムを含有することで、２５℃におけるｐＨが８．５〜１１．０に調製されていることを特徴とする半導体ウエハ研磨用組成物。 - 特許庁