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日英・英日専門用語辞書での「microscopic surface roughness」の意味

microscopic surface roughness


「microscopic surface roughness」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 11



例文

To attain a desired glide height by making the surface roughness and the microscopic waviness on a substrate surface have the predetermined range and a predetermined relation.例文帳に追加

基板表面における表面粗さ、微小うねりを所定の範囲・関係にすることによって、所望のグライド高さを達成する。 - 特許庁

To attain a desired glide height by making the surface roughness and the microscopic waviness on a substrate surface fall in a predetermined range/relation.例文帳に追加

基板表面における表面粗さ、微小うねりを所定の範囲・関係にすることによって、所望のグライド高さを達成する。 - 特許庁

To provide a surface treatment facility of a metal plate capable of efficiently giving surface roughness efficiently made of microscopic irregularities on a surface of the metal plate.例文帳に追加

金属板の表面に効率的に微視的凹凸からなる表面粗さを効率的に付与することが可能な金属板の表面処理設備を提供する。 - 特許庁

Dimples are uniformly provided on a surface of the base material and microscopic surface roughness Rq excluding components of the dimples is 0.03 to 0.08 μm.例文帳に追加

基材の表面には一様にディンプルを設けるとともに、このディプルの成分を除外した微視的な表面粗さRqを0.03〜0.08μmとする。 - 特許庁

Recesses of a microscopic recessed shape are innumerably arranged at random on a side surface 26a, and a surface roughness parameter Ryni of a recess-arranged surface is set in a range of 0.4 μm≤Ryni≤1.0 μm.例文帳に追加

側面26aに、微小凹形状のくぼみをランダムに無数に設け、前記くぼみを設けた面の面粗さパラメータRyniが0.4μm≦Ryni≦1.0μmの範囲内である。 - 特許庁

To reduce the coefficient of friction by unifying the dispersion of the residual stress generated in the machining, and smoothing the microscopic surface roughness without changing the dimensions and shapes, the heat treatment effect, the surface roughness or the metallic gloss, etc., of a metallic parts finished to the required dimension in the machining.例文帳に追加

加工により所要の寸法に仕上げられた金属部品の寸法形状や熱処理効果、あるいは表面粗さや金属光沢等を変化させずに、加工により生じた残留応力のばらつきを均一化するとともに、微視的な表面粗さを平滑化して摩擦係数を下げる。 - 特許庁

例文

Irregularity processing such as shot peening is applied to a surface side of the seal land part 18 of the shoe 9 to form a lot of microscopic concavities and convexities 18A, of which average surface roughness Ra is within a range of 0.5-5.0, to a whole surface.例文帳に追加

そして、シュー9のシールランド部18の表面側には、例えばショットピーニング等の微細な凹凸加工を施すことにより、その平均表面粗さRaが、0.5〜5.0の範囲内となる微細な多数の凹凸18Aを全面にわたって形成する。 - 特許庁

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「microscopic surface roughness」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 11



例文

A microscopic light transmission area 31 transmitting incident light and a scattering area 32 scattering light by increasing the roughness of the surface of a substrate 30 are formed on the surface of the substrate 30 adapted to transmit light with a specified wavelength.例文帳に追加

所定の波長の光を透過する基板30の表面には、入射する光を透過させる微小光透過領域31と、基板30の表面の粗さを大きくして光を散乱させる散乱領域32とが形成されている。 - 特許庁

To provide a method for treating the surface of a substrate, useful in the case of manufacturing a semiconductor element for imparting a clean substrate surface, by selectively removing a spontaneous oxidation film, without impairing a needing thermal oxide film by exceeding an allowing range and without bringing about a microscopic roughness on the surface of the substrate after treatment.例文帳に追加

必要とする熱酸化膜を許容範囲を超えて損なうことなく、処理後の基板表面にマイクロラフネスを生じることなく自然酸化膜を選択的に除去し、清浄な基板面を与える半導体素子の製造の際に有用な基板表面の処理方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for forming a PZT thin film which enhances a film composition distribution in a substrate plane, suppresses microscopic variations in generation of crystal grains in the substrate plane, and enhances a surface roughness, and also to provide a method for manufacturing a semiconductor device including this thin film.例文帳に追加

基板面内の膜組成分布を向上せしめると共に、基板面内の結晶粒の発生の微視的なバラツキを抑制し、さらに表面ラフネスの向上を達成することができるPZT薄膜の形成方法及びこの薄膜を含んでなる半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

例文

The dispersion of the residual stress in a metal surface is unified and the microscopic surface roughness is smoothed to reduce the coefficient of friction with little influence on the dimensions and shapes of the metal, or other characteristics of the metal by allowing the AC current to run in the metal immersed in an electrolyte 3 of ≥7 pH through the electrolyte 3.例文帳に追加

本発明では、pH7以上の電解液3中に浸積された金属に、この電解液3を介して交流電流を流すことにより、金属の寸法形状や金属の有する他の特性に殆ど影響を及ぼすことなく、金属表面における残留応力のばらつきを均一化するとともに、微視的な表面粗さを平滑化して摩擦係数を下げる。 - 特許庁

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