n mjとは 意味・読み方・使い方

The n-type diffusion layer forming composition contains glass powder including a donor element, and a dispersant containing a binder having a solubility parameter being equal to or less than 12(MJ/m^3)^1/2.例文帳に追加

ｎ型拡散層形成組成物は、ドナー元素を含むガラス粉末と、溶解度パラメーターが１２（ＭＪ／ｍ^３）^１／２以下であるバインダーを含む分散媒と、を含有する。 - 特許庁

In the forward mesa inclined surface area MJ, dark emission tends to increase in a part where the n-type InP semiconductor layer 14 contacts with the p-type InP electron emission layer 13.例文帳に追加

順メサ斜面領域ＭＪにおいて、ｎ型ＩｎＰの半導体層１４とｐ型ＩｎＰの電子放出層１３が接する部分においては、ダークエミッションが多くなる傾向がある。 - 特許庁

To provide high toughness and high strength ferritic steel which has a tensile strength of ≥1,000 MPa and a Charpy impact value of ≥1 MJ/m^2 by detoxicating O, C, N intruded in the process of mechanical crushing treatment, and preventing the embrittlement of old powder boundaries.例文帳に追加

機械的破砕処理中に混入するＯ，Ｃ，Ｎを無害化し、旧粉末境界の脆化を防止することにより引張強さ１０００ＭＰａ以上，シャルピー衝撃値１ＭＪ／ｍ^2以上の高靭性高強度フェライト鋼の提供。 - 特許庁

The film for fusion-cut sealing has tear end resistance of a polylactic acid-based film consisting essentially of a polylactic acid-based resin of ≤100 N/20 mm both in MD and TD, a Charpy impact strength of ≤0.060 MJ/m^2 both in MD and TD and a haze of >1% and ≤10%.例文帳に追加

主としてポリ乳酸系樹脂からなるポリ乳酸系フィルムの端裂抵抗がＭＤ、ＴＤともに１００Ｎ／２０mm以下であり、かつ、シャルピー衝撃強さがＭＤ、ＴＤともに０．０６０ＭＪ／ｍ^2以下であり、さらにヘーズが１％を越え１０％以下であることを特徴とする、溶断シール用フィルム。 - 特許庁

A metal thin film 110 is formed on the back face 1b with the irregularity formed thereon, and thereafter a drain electrode 11 including a silicide layer 111 is formed by irradiating the back face 1b side of the n^+ type substrate 1 with laser light in a condition where the product of photon energy and laser output is set to 1,000-8,000 eV mJ/cm^2.例文帳に追加

そして、凹凸が形成された裏面１ｂ上に金属薄膜１１０を形成した後、ｎ^+型基板１の裏面１ｂ側に光子エネルギーとレーザ出力の積が１０００ｅＶ・ｍＪ／ｃｍ^2以上かつ８０００ｅＶ・ｍＪ／ｃｍ^2以下となるような条件でレーザ光を照射することでシリサイド層１１１を含むドレイン電極１１を形成する。 - 特許庁

After forming a metal thin film 110 on the rear surface 1b where the amorphous layer 12 is formed, the rear surface 1b of the n^+-type substrate 1 is irradiated with laser light under the condition that the product of photon energy and laser output is 1000-8000 eV mJ/cm^2, thereby forming a drain electrode 11 containing a silicide layer 111.例文帳に追加

そして、アモルファス層１２が形成された裏面１ｂ上に金属薄膜１１０を形成した後、ｎ^+型基板１の裏面１ｂ側に光子エネルギーとレーザ出力の積が１０００ｅＶ・ｍＪ／ｃｍ^2以上かつ８０００ｅＶ・ｍＪ／ｃｍ^2以下となるような条件でレーザ光を照射することでシリサイド層１１１を含むドレイン電極１１を形成する。 - 特許庁