nanoimprint lithographyとは 意味・読み方・使い方

PHOTOCURABLE COMPOSITION FOR PHOTO-NANOIMPRINT LITHOGRAPHY AND MANUFACTURING METHOD OF SUBSTRATE WITH PATTERN例文帳に追加

光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性組成物、及びパターン付き基板の製造方法 - 特許庁

To provide a curable composition for nanoimprint lithography, capable of forming a shape transfer layer in which peeling of a resist film is rarely caused in a nanoimprint method.例文帳に追加

ナノインプリント方法において、レジスト膜のはがれが生じ難い形状転写層を形成することができるナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a mold for nanoimprint lithography assisted by a prescribed wavelength capable of minimizing a distance between two continuing chips.例文帳に追加

２つの連続するチップ間の距離を最小化する、所定波長によって支援されるナノインプリントリソグラフィー用のモールドを設計する。 - 特許庁

To provide a technique of carrying out nanoimprint lithography without requiring mold separation with respect to a mold.例文帳に追加

モールドに対する離型処理を必要とせずにナノインプリントリソグラフィーを行う手法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition with which a black matrix having excellent pattern precision and hardness is obtained by using nanoimprint lithography.例文帳に追加

ナノインプリントリソグラフィを用い、パターン精度、硬さに優れたブラックマトリックスが得られる感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To fabricate a large area stamp for a nanoimprint lithography using a small stamp, after fabricating the small stamp.例文帳に追加

小型スタンプを製作した後,小型スタンプを利用してナノイントリソグラフィ用大面積スタンプを製作する。 - 特許庁

The substrate for imprint of the present invention is a substrate used in photo nanoimprint lithography, and characterized in that a metal compound layer is formed on a substrate and on the metal compound layer, an intermediate layer having an adhesive force with a photo curing resin used in the photo nanoimprint lithography larger than that of the metal compound layer is formed.例文帳に追加

本発明のインプリント用基板は、光式ナノインプリントリソグラフィにおいて用いられる基板であって、基板上に金属化合物層を形成してなり、該金属化合物層上に、光式ナノインプリントリソグラフィに用いられる光硬化性樹脂との密着力が、金属化合物層より大きな中間層を形成してなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a replica mold having high durability against chemical, thermal and mechanical stresses, and suitably usable in various nano-lithography technologies including thermal NIL (NanoImprint Lithography) and photo NIL, and to provide a method for simply and inexpensively fabricate the replica mold.例文帳に追加

化学的、熱的および機械的なストレスに対して高い耐久性を有し、熱ＮＩＬおよび光ＮＩＬを含む種々のナノリソグラフィー技術に好適に用いることができるレプリカモールドおよび、簡便かつ安価にレプリカモールドを作製する方法を提供する。 - 特許庁