nitrogen dopeとは 意味・読み方・使い方

A precursor is prepared by subjecting zinc oxide (ZnO) and a nitrogen source or a sulfur source to mechanochemical treatment and heat-treated to dope zinc oxide (ZnO) with nitrogen (N) or sulfur (S).例文帳に追加

酸化亜鉛（ＺｎＯ）と窒素源または硫黄源とをメカノケミカル処理することにより前駆体を作製する。 - 特許庁

The photocatalyst composition contains 25-90 wt.% of the nitrogen dope titanium oxide to the total weight of the nitrogen dope titanium oxide and the attapulgite.例文帳に追加

上記光触媒組成物は、上記窒素ドープ酸化チタンおよび上記アタパルジャイトの合計重量に対して上記窒素ドープ酸化チタンを２５〜９０重量％の割合で含む。 - 特許庁

To provide a method for growing an oxide crystal of nitrogen (N) dope capable of setting concentration of nitrogen (N) at a desired value and uniformly forming the nitrogen (N) concentration from the surface along the depth direction.例文帳に追加

本発明は、窒素（Ｎ）の濃度を所望する濃度に設定し、且つ表面から深さ方向に対して窒素（Ｎ）の濃度を均一に形成することが可能な窒素（Ｎ）ドープの酸化物結晶成長方法を提供する。 - 特許庁

The photocatalyst composition includes particulate nitrogen dope titanium oxide and particulate attapulgite in a mixed state.例文帳に追加

本発明の光触媒組成物は、微粒子状の窒素ドープ酸化チタンと、微粒子状のアタパルジャイトとを混合状態で含有する。 - 特許庁

In the method for producing the epitaxial silicon wafer, mentioned above, it is preferable to dope nitrogen in a concentration of 1×1013 to 1×1016 atom/cm3.例文帳に追加

(2) 上記(1)のエピタキシャルシリコンウェーハの製造方法では、窒素濃度を１×10^13atoms／cm^3〜１×10^16atoms／cm^3の範囲でドープするのが望ましい。 - 特許庁

To realize an epitaxial wafer for an HEMT which is more excellent in electrical property than uniform dope and planar dope by inserting a thin layer of a high carrier concentration instead of a planar dope technique which hardly shows characteristics in a compound semiconductor mainly containing nitrogen formed by an MOVPE method.例文帳に追加

ＭＯＶＰＥ法で成長した、窒素を主に含む化合物半導体では特性を出しにくいプレーナードープ技術に代わり、高キャリア濃度の薄層を挿入することにより、均一ドープやプレーナードープよりさらに電気的特性の優れたＨＥＭＴ用エピタキシャルウェハを実現すること。 - 特許庁

The liquid raw material D is a polymer dope preferably containing a thermoplastic polyurethane resin, a water-soluble polymer compound and an oxygen/nitrogen-containing organic solvent containing oxygen atoms or nitrogen atoms in the molecule.例文帳に追加

この液状原料Ｄは、好ましくは、熱可塑性ポリウレタン樹脂と、水溶性高分子化合物と、分子内に酸素原子又は窒素原子を含む含酸素／窒素有機溶媒とを含むポリマードープである。 - 特許庁