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nitrogen distributionとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 窒素分布
「nitrogen distribution」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 50件
The distribution of defect size is shifted toward that of much smaller one by the nitrogen doping.例文帳に追加
窒素ドーピングにより欠陥サイズ分布がより小さい欠陥のほうにシフトする。 - 特許庁
To provide a nitriding method of an oxide film, which can optimize distribution of nitrogen atoms in a film.例文帳に追加
膜中における窒素原子の分布を最適化できる酸化膜の窒化方法を提供する - 特許庁
The nitrogen concentration distribution of the bottom insulation film BTM exposes the semiconductor surface area CH to plasma containing nitrogen atoms, and is obtained by nitriding.例文帳に追加
このようなボトム絶縁膜BTMの窒素濃度分布は、半導体表面領域CHを窒素原子を含むプラズマに曝し、窒化することにより得られる。 - 特許庁
Nitrogen distribution layers 3N and 53N are formed near the surface on the side of silicide layers 11 and 61 of silicon layers 3 and 53.例文帳に追加
シリコン層3,53のシリサイド層11,61側の表面近傍に窒素分布層3N,53Nを形成する。 - 特許庁
To provide a superconducting equipment capable of measuring temperature distribution or distortion distribution of a superconducting wire at a temperature lower than liquid nitrogen temperature without mounting numerous thermometers.例文帳に追加
多数の温度計を取り付けることなく液体窒素温度以下の温度で超電導線の温度分布または歪み分布を測定することのできる超電導機器を提供する。 - 特許庁
At ion-implantation for forming source/drain regions 9 and 59, a dopant is implanted even into the silicon layers 3 and 53 so that a boron distribution layer 3B or phosphorus distribution layer 53P is formed in a region deeper than the nitrogen distribution layers 3N and 53N.例文帳に追加
ソース/ドレイン領域9,59の形成のためのイオン注入時にシリコン層3,53中へもドーパントが注入されて、窒素分布層3N,53Nよりも深い領域にホウ素分布層3B又はリン分布層53Pが形成される。 - 特許庁
In the group 13 nitride semiconductor nanoparticles, the particle diameter distribution of the group 13 nitride semiconductor nanoparticles is ≤50% by the coefficient of variation, and the ratio in the number of atoms between the group 13 element(s) and nitrogen, (the group 13 element(s): nitrogen) is 1:0.95 to 1:1.05.例文帳に追加
13族窒化物半導体ナノ粒子の粒径分布が変動係数で50%以下であり、13族元素と窒素の原子数の比(13族元素:窒素)が1:0.95〜1:1.05である。 - 特許庁
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「nitrogen distribution」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 50件
The interaction due to boron and phosphorus is suppressed by the nitrogen in the nitrogen distribution layers 3N and 53N, so that a MOS transistor comprising low- resistance gate electrodes 5 and 55 and a specified threshold value is manufactured.例文帳に追加
窒素分布層3N,53N中の窒素によりホウ素及びリンによる上記相互作用が抑制されて、低抵抗のゲート電極5,55及び所定のしきい値を有するMOSトランジスタが製造される。 - 特許庁
After the metastable nitrogen-containing polymer is stored at 55°C for one month, the rate of change of the narrow molecular distribution is less than 2%.例文帳に追加
準安定性窒素含有重合体が55℃で1ヶ月間保存された後、狭い分子量分布の変化率が2%未満である。 - 特許庁
The half value width of the pore volume in the pore diameter distribution obtained by the nitrogen adsorption method is preferably equal to or less than a half of the average pore diameter.例文帳に追加
窒素吸着法により得られる、細孔径分布における細孔容積の半値幅は、好ましくは平均細孔径の1/2以下である。 - 特許庁
A pore distribution determined base on an adsorption isothermal curve of nitrogen gas in the porous titanium oxide layer 2 has the maximum value in 40 nm-2 μm of range.例文帳に追加
多孔質酸化チタン層2の窒素ガスの吸着等温線に基づいて決定される細孔分布が40nm〜2μmの範囲で最大値を示す。 - 特許庁
An ECU 4 controls the operation of a purge valve 6 or a hydrogen circulation valve 8 according to the estimated distribution state of nitrogen or liquid water in the fuel cell 10.例文帳に追加
ECU4は、推定した燃料電池10内の窒素や液水の分布状態に応じて、パージバルブ6や水素循環ポンプ8の動作を制御する。 - 特許庁
The nitrogen concentration distribution in the film thickness direction has the maximum value, and the peak is unevenly distributed on the board side from the film thickness center of the bottom insulation film BTM.例文帳に追加
その膜厚方向の窒素濃度分布が極大値を有し、また、そのピークがボトム絶縁膜BTMの膜厚中心より基板側に偏在する。 - 特許庁
To enable jetting of nitrogen gas corresponding to the mounting distribution of electronic components into a predetermined direction over a jet solder bath and to allow a large amount of nitrogen gas to be jetted on the side overly provided with electronic components.例文帳に追加
電子部品の実装分布に対応した窒素ガスを噴流はんだ槽上の所定の方向に噴出できるようにすると共に、電子部品が片寄って実装された側に多く窒素ガスを噴出できるようにする。 - 特許庁
A nitrogen implantation region 13 is formed by additionally implanting nitrogen near an interface with a P type well layer 12 formed into the low-density N type epitaxial layer 11, so that the density distribution of an N type impurity is made uniform.例文帳に追加
低濃度N型エピ層11内に形成されるP型ウエル層12との界面近傍に窒素を追加で打ち込んで窒素注入領域13を形成しているので、N型不純物の濃度分布が均一化される。 - 特許庁
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