overlay accuracyとは 意味・読み方・使い方

METHOD AND APPARATUS FOR ADJUSTING FOCUS POSITION OF OVERLAY ACCURACY MEASURING EQUIPMENT例文帳に追加

重ね合わせ精度測定装置の焦点位置調整方法及び調整装置 - 特許庁

To provide a multiple exposure method wherein overlay accuracy is improved.例文帳に追加

オーバレイ正確度の向上した多重露光法を提供する。 - 特許庁

To improve the imaging performance and the overlay accuracy of a scanning exposure apparatus.例文帳に追加

走査型露光装置の像性能および重ね合わせ精度を向上させる。 - 特許庁

PRODUCTION SUPPORT SYSTEM, INSPECTION METHOD OF OVERLAY ACCURACY, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

生産支援システム、重ね合わせ精度の検査方法および記録媒体 - 特許庁

A data storing section 11 stores the measurement value of overlay accuracy after photoengraving processing which has been measured by an overlay inspecting device 4, and the measurement value of overlay accuracy after etching.例文帳に追加

データ保存部１１は、重ね合わせ検査装置４によって測定された写真製版処理後の重ね合わせ精度の測定値と、エッチング後の重ね合わせ精度の測定値とを保存する。 - 特許庁

To provide an overlay control system for warranting overlay accuracy with respect to a plurality of lower layers.例文帳に追加

複数の下層レイヤに対するオーバーレイ精度を保証するオーバーレイ制御システムを提供する。 - 特許庁

To provide a photomask and a method for measuring shot overlay accuracy by which the overlay accuracy among shots belonging in different mask layers can be rapidly measured and shot overlay with high accuracy can be achieved, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

異なるマスクレイヤに属するショット間の重ね合わせ精度を高速に計測することができ、高精度なショット重ね合わせを実現できるフォトマスク、重ね合わせ精度計測方法及び半導体装置の製造方法を提供する - 特許庁

PHOTOMASK, METHOD FOR MEASURING SHOT OVERLAY ACCURACY, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フォトマスク、ショット重ね合わせ精度測定方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁