plasma facing materialとは 意味・読み方・使い方

To provide a plasma facing material which has heat-transfer characteristics equal to or higher than conventional fastening methods for inserting an expanded graphite sheet and is also improved remarkably in the workability in mounting the material on a pedestal, and to provide a method for manufacturing.例文帳に追加

膨張黒鉛シートを間挿する従来の締結方法と同等以上の伝熱特性を有し、かつ台座への取付け作業性が格段に改善されたプラズマ対向材およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The plasma facing material, which is mounted on the pedestal opposite to a plasma emission source in a nuclear fusion device, is composed of a tile-like member and the expanded graphite sheet fixed through the agency of an adhesive onto at least a part of the mounting surface of the tile-like member on the pedestal.例文帳に追加

核融合装置内のプラズマ発生源に対向させて台座に取付けられるプラズマ対向材であって、タイル形状部材と、タイル形状部材の台座への取付け面の少なくとも一部に接着剤を介して固定される膨張黒鉛シートとからプラズマ対向材を構成する。 - 特許庁

Ordinary temperature plasma is generated between a pair of electrodes 2 by running nitrogen gas between the pair of electrodes 2 facing each other through a dielectric material.例文帳に追加

誘電体材料を介在させて対向する一対の電極（２）の間に、窒素ガスを流過させて当該電極（２）間に常温プラズマを生成する。 - 特許庁

The annular plasma generator (2) includes radially inner and outer electrodes (3, 4) separated by a dielectric material (5) disposed within an annular groove (6) in a radially inward facing surface (7) of the annular shroud (72).例文帳に追加

環状プラズマ発生器（２）は、環状シュラウド（７２）の半径方向内向き表面（７）の環状グルーブ（６）内に配置され誘電体材料（５）によって分離された半径方向内側及び外側電極（３、４）を含む。 - 特許庁

This method forms the film containing at least either one of an O atom and an N atom on the surface of the base material and an Si atom by discharging electricity between electrodes facing each other under the atmosphere pressure or the pressure near the atmosphere pressure to put reactive gas into a plasma state and exposing the base material to the reactive gas of the plasma state.例文帳に追加

大気圧または大気圧近傍の圧力下において、対向する電極間に放電することにより反応性ガスをプラズマ状態とし、基材を前記プラズマ状態の反応性ガスに晒すことによって、前記基材の表面にＯ原子とＮ原子の少なくともいずれか一方と、Ｓｉ原子とを含有する膜を形成する方法である。 - 特許庁

In the half-mirror film forming method, a reactive gas is made into a plasma state, by performing discharge between mutually facing electrodes 25 and 36 under atmospheric pressure or in the neighborhood of the atmospheric pressure, and the half-mirror film is formed on the base material, by exposing the base material F having translucence in the reactive gas of the plasma state.例文帳に追加

このハーフミラー膜形成方法は、大気圧または大気圧近傍の圧力下において対向する電極２５と３６の間に放電することにより、反応性ガスをプラズマ状態とし、透光性を有する基材Ｆをプラズマ状態の反応性ガスに晒すことによって基材上にハーフミラー膜を形成する。 - 特許庁

In the method for decomposing waste gas, the fluorine compound gas is decomposed by plasma produced by disposing a solid dielectric material on at least one of the opposing faces of a pair of electrodes facing each other under pressure near the atmospheric pressure and then by applying a pulsed electric field between the pair of electrodes facing each other.例文帳に追加

大気圧近傍の圧力下で、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該一対の対向電極間にパルス状の電界を印加することにより生成されたプラズマによりフッ素化合物ガスを分解することを特徴とする排ガス分解処理方法。 - 特許庁

Using high frequency electric field generated by a first high frequency power supply 51 and a second high frequency power supply 52 in a facing region 31 between a main electrode 101 and a first sub-electrode 102 and mixed gas supplied from a first gas supply means 41, a thin film is formed on a surface of a base material F by atmospheric pressure plasma discharge generated in the facing region 31.例文帳に追加

主電極１０１と第１の副電極１０２間に第１の高周波電源５１と第２の高周波電源５２とにより対向領域３１に発生した高周波電界及び第１のガス供給手段４１により供給された混合ガスにより対向領域３１で発生した大気圧プラズマ放電により基材Ｆ表面に薄膜形成する。 - 特許庁