plasma resonanceとは 意味・読み方・使い方

VAPOR DEPOSITION METHOD OF ELECTRON EMITTING CARBON FILM BY ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE PLASMA例文帳に追加

電子サイクロトロン共鳴プラズマによる電子放出カ—ボンフィルムの蒸着方法 - 特許庁

The Al2O3 film is formed particularly by an electron cyclotron resonance plasma sputtering method.例文帳に追加

特にこのＡl_2Ｏ_3膜を、例えば電子サイクロトロン共鳴プラズマスパッタ法で成膜する。 - 特許庁

To provide a plasma generating device which can perform a good electron cyclotron resonance heating.例文帳に追加

良好な電子サイクロトロン共鳴加熱を行うことができるプラズマ発生装置を提供する。 - 特許庁

ELECTROMAGNETIC WAVE TRANSMISSION DEVICE, ELECTROMAGNETIC WAVE RESONANCE DEVICE, PLASMA PROCESSING DEVICE, EXPOSURE SYSTEM, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

電磁波伝送装置、電磁波共振装置、プラズマ処理装置、露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

The surface wave resonance density of surface wave plasma generated in a plasma generating section (14) is preferably in the range of 4.1×10^8-1.0×10^11 cm^-3.例文帳に追加

プラズマ生成部(14)で生成される表面波プラズマの表面波共鳴密度は、4．1×10^8cm^-3以上1．0×10^11cm^-3以下であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a plasma treatment method and a plasma treatment equipment which can control electron temperature of electron cyclotron resonance (ECR) plasma with high precision.例文帳に追加

電子サイクロトロン共鳴（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｃｙｃｌｏｔｒｏｎ ｒｅｓｏｎａｎｃｅ：ＥＣＲ）プラズマの電子温度を高精度に制御可能なプラズマ処理方法およびプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus for generating stable plasma at from high pressure to low pressure by forming an adequate resonance region in a top plate according to plasma conditions.例文帳に追加

プラズマ条件に応じて天板内に最適な共振領域を形成し、高い圧力から低い圧力にわたって安定したプラズマの発生が可能なプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a plasma process system and method in which resonance in a plasma process chamber can be reduced by enhancing the uniformity of plasma process effected in the chamber.例文帳に追加

チャンバ内で果たされるプラズマプロセスの均一性を高め、プラズマプロセスチャンバ内のチャンバ共振を減じるプラズマプロセスシステム並びに方法。 - 特許庁