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polishing rateとは 意味・読み方・使い方
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「polishing rate」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 479件
To optimize a polishing rate in CMP (Chemical Mechanical Polishing).例文帳に追加
CMP(Chemical Mechanical Polishing:化学的機械研磨)における研磨レートの最適化を図ること。 - 特許庁
POLISHING APPARATUS AND POLISHING RATE ESTIMATING METHOD例文帳に追加
研磨装置および研磨レート推定方法 - 特許庁
POLISHING DEVICE FOR STABILIZING POLISHING RATE例文帳に追加
研磨レ−トを安定にする研磨装置 - 特許庁
SEMICONDUCTOR POLISHING DEVICE, POLISHING RATE ESTIMATING METHOD, AND PROGRAM例文帳に追加
半導体研磨装置および研磨レート推定方法並びにプログラム - 特許庁
POLISHING RATE ESTIMATING METHOD FOR COPPER CHEMICAL MECHANICAL COMPOSITION POLISHING SLURRY例文帳に追加
銅の化学機械複合研磨用スラリーの研磨速度推定方法 - 特許庁
DATA PROCESSOR, POLISHING DEVICE AND METHOD FOR ESTIMATING POLISHING RATE例文帳に追加
データ処理装置および研磨装置および研磨レートの推定方法 - 特許庁
In production of a polishing surface plate used for final floating surface polishing working of a manufacturing step of a magnetic head, the polishing rate correction system for previously measuring the polishing rate distribution in the polishing surface of the polishing surface plate and performing correction of the polishing rate according to the measured distribution of the polishing rate is provided.例文帳に追加
磁気ヘッドの製造工程の最終浮上面研磨加工に用いる研磨定盤の作成において、研磨定盤の研磨面内の研磨レート分布を事前に測定し、測定した研磨レートの分布に従って研磨レートの修正を行う研磨レート修正システムを提供する。 - 特許庁
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「polishing rate」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 479件
To provide a polishing pad which can contribute to the improvement of a polishing rate.例文帳に追加
研磨レートの向上に寄与できる研磨パッドを提供すること。 - 特許庁
Thus, polishing is performed, without making the polishing rate reduced.例文帳に追加
これにより、研磨レートを低下させることなく、研磨を行うことができる。 - 特許庁
To maintain a polishing rate constant in chemical-mechanical polishing.例文帳に追加
化学的機械研磨方法において研磨レートが一定になるようにする。 - 特許庁
Moreover, the polishing rate is not significantly decreased after long polishing.例文帳に追加
また、長時間研磨しても研磨速度が著しく低下しない。 - 特許庁
To realize a chemical and mechanical polishing process in which aggromerate slurry is surely removed from a polishing pad, and chemical mechanical polishing is carried out at a regular polishing rate without cutting the surface of a polishing pad.例文帳に追加
研磨パッドの表面を削ることなく、凝集スラリーを確実に除去し、研磨レート均一な化学的機械研磨を行う。 - 特許庁
To provide a polishing composition being excellent in polishing power and polishing rate, producing inconspicuous polishing flaws, being handled lightly, and producing good finish after polishing and to provide applications thereof.例文帳に追加
研磨力及び研磨速度に優れ、研磨キズが目立たず、ハンドリングが軽く、研磨後の仕上がりが良い研磨組成物及びその用途を提供する。 - 特許庁
To provide a polishing device capable of polishing the circumferential portion of a substrate at a high polishing rate.例文帳に追加
基板の周縁部を高い研磨レートで研磨することができる研磨装置を提供する。 - 特許庁
To provide a fluid polishing apparatus improving a polishing rate in fluid polishing.例文帳に追加
流体研磨において研磨レートを向上させることができる流体研磨装置を提供する。 - 特許庁
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