radical 115とは 意味・読み方・使い方

A substrate 113 is installed in a substrate holder 114, and a radical generating device 115 converts a reactive gas into a radical so as to be introduced into the chamber.例文帳に追加

基板ホルダー１１４へ基板１１３が設置され、ラジカル発生装置１１５は反応性ガスをラジカル化してチャンバー内に導入する。 - 特許庁

The anisotropic electroconductive adhesive prepared by dispersing electroconductive particles in an insulative adhesion component containing a radical-polymerizable compound, a radical initiator, and a film-forming resin has a minimum melt viscosity in the range of 100 to 800 Pa s and a temperature demonstrating the minimum melt viscosity, in the range of 90 to 115°C.例文帳に追加

ラジカル重合性化合物と、ラジカル開始剤と、フィルム形成樹脂とを含有する絶縁性接着成分に、導電性粒子が分散してなる異方性導電接着剤は、最低溶融粘度が１００〜８００Ｐａ・ｓの範囲であり、最低溶融粘度を示す温度が９０〜１１５℃の範囲である。 - 特許庁

The high frequency power source 116 feeds electric power to the radical generating device 115, perfectly covers a sealed metallic vessel and an insulated electrode with dielectrics, introduces gas containing a reactive gas from a gas introduction part, applies high frequency electric power to the space between the metallic vessel and the electrode to cause discharge, and releases the radical of the reactive gas caused by the discharge.例文帳に追加

高周波電源１１６はラジカル発生装置に電力を供給し、密閉された金属容器と絶縁された電極を誘電体で完全に被覆し、ガス導入部から反応性ガスを含むガスを導入し、金属容器と電極間に高周波電力を印加して放電を起こし、放電によって生じた反応性ガスのラジカルを放出可能とする。 - 特許庁