Radical 12とは 意味・読み方・使い方

A stable free radical compound is added to the bottom liquid of a distillation column in a manner to keep the value of [stable free radical compound × the number of free radicals in the molecule of the compound] to 3-12 μmol/kg (bottom liquid).例文帳に追加

蒸留塔塔底液中に安定フリーラジカル化合物を、［安定フリーラジカル化合物×該化合物分子中のフリーラジカルの数］が３〜１２μｍｏｌ／ｋｇ（塔底液）となるように添加することを特徴とする。 - 特許庁

Subsequently, the metal film 12 is oxidized with an oxygen radical 13 to form a metal oxide film 2 which acts as a gate insulation film.例文帳に追加

続いて、酸素ラジカル１３を用いて金属膜１２を酸化させることにより、ゲート絶縁膜となる金属酸化膜２を形成する。 - 特許庁

On at least one of opposite surfaces of the pair of substrates of the display medium 12, a processing layer is provided which contains a silane coupling agent expressed by general formula (1) R^1-Si(OR^2)_3 (where R^1 represents a monovalent aliphatic hydrocarbon radical with ≥C7 and R^2 represents a monovalent aliphatic hydrocarbon radical with ≤C4).例文帳に追加

一般式（１）Ｒ^１−Ｓi（ＯＲ^２）_３（上記一般式（１）中、Ｒ^１は、炭素数７以上以下の１価の脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ^２は、炭素数４以下の１価の脂肪族炭化水素基を表す。） - 特許庁

The transparent conductor 10 is provided with a conductive layer 15 including conductive particles 11, a binder 12, a polymerization initiator 13, and a radical trapping agent 14.例文帳に追加

本発明の透明導電体１０は、導電性粒子１１、バインダ１２、重合開始剤１３、及びラジカル捕捉剤１４を含む導電層１５を備える。 - 特許庁

A plasma processing apparatus includes: a processing gas supply source 8 installed outside a vacuum chamber 12; and a radical emitter 10 for discharging processing gas supplied from the processing gas supply source 8.例文帳に追加

真空槽１２の外部に設けられた処理ガス供給源８と、処理ガス供給源８から供給された処理ガスを放電させるラジカル放出器１０とを備える。 - 特許庁

Since reaction between the etching gas and the radical takes place on the surface of the substrate 15, and intermediate products of reaction between the etching gas and the radical react quickly on the etching object, the intermediate products are not discharged excessively from the processing chamber 12 and high etching efficiency is ensured.例文帳に追加

また、エッチングガスとラジカルとの反応は基板１５表面で起こるため、エッチングガスとラジカルとの反応により生成される中間生成物は速やかにエッチング対象物と反応するため、中間生成物が過剰に処理室１２から排気されることなく、エッチング効率が高い。 - 特許庁

The liquid droplet delivering apparatus 110 is provided with a vaporizing instrument 12 as a vaporizing means for vaporizing a radical polymerization type ultraviolet-curing liquid and discharging it in a box body 114.例文帳に追加

液滴吐出装置１１０には、ラジカル重合型紫外線硬化液体を気化して筐体１１４の内部に放出する気化手段としての気化器１２が設けられている。 - 特許庁

A radical generation means 12 includes an ultrasonic generator placed so as to apply ultrasonic waves into the liquid or injection equipment 51 placed so as to direct a jet of high-pressure water into the liquid.例文帳に追加

ラジカル発生手段１２が、液体中に超音波を照射可能に設けられた超音波発生装置、または、液体中に高圧水を噴射可能に設けられた噴射装置５１から成る。 - 特許庁