rapid nitridingとは 意味・読み方・使い方

Nitriding can be selectively carried out by rapid thermal nitridation (RTN), furnace nitriding, remote plasma nitriding (RPN), decoupled plasma nitriding (DPN), and wale implantation or polysilicon implantation, or by various techniques, including combinations of these methods.例文帳に追加

窒化は、急速熱窒化（ＲＴＮ）、炉窒化、リモート・プラズマ窒化（ＲＰＮ）、デカップルド・プラズマ窒化（ＤＰＮ）、ウェル注入またはポリシリコン注入、あるいはこれらの組合せを含むさまざまな技法によって選択的に実施することができる。 - 特許庁

After a Ta_2O_5 film has been deposited on (002) the surface of Ru and low-temperature oxidation is performed, rapid nitriding process is performed at about 800°C.例文帳に追加

Ｔａ_2Ｏ_5膜をＲｕの（００２）面上に堆積し、低温酸化を行なった後、約８００°Ｃで急速窒化工程を行なう。 - 特許庁

A formed silicon substrate of an element separation film 12 is fitted to a rapid thermal process(RTP) furnace and is heated at 500-800°C within oxidizing/nitriding atmosphere, thus forming an oxide-nitride film 13 on a silicon substrate 11 (c).例文帳に追加

素子分離膜１２の形成されたシリコン基板を急速加熱（ＲＴＰ）炉に装着し、酸化・窒化雰囲気中にて５００〜８００℃に加熱してシリコン基板１１上に酸窒化膜１３を形成する（ｃ）。 - 特許庁

To provide a heat treatment apparatus which achieves the rapid heating and uniform heating to a workpiece, and performs tempering, carburization or nitriding, etc. while using an induction heating coil as a heating source.例文帳に追加

処理品に対する速やかな加熱と均一な加熱とをともに実現でき、高周波誘導加熱コイルを加熱源として用いながら焼戻しや浸炭或いは窒化等の処理を行い得る熱処理設備を提供する。 - 特許庁

An RTA furnace for rapid heating and rapid cooling is used to apply heat treatment to a silicon wafer having an oxide film of 30-100 Å thicker than the thickness of a natural oxide film in an atmosphere of nitrogen gas, thereby nitriding the oxide film to form a nitrided oxide film, and the vacancy and nitrogen are injected into the inside of the silicon wafer from the surface of the silicon wafer.例文帳に追加

急熱急冷が可能なＲＴＡ炉を用い、自然酸化膜より厚い３０Å〜１００Åの酸化膜が形成されたシリコンウェーハを、窒素ガスの雰囲気下で熱処理することで、酸化膜を窒化して窒化酸化膜とし、シリコンウェーハの表面からシリコンウェーハの内部に空孔および窒素を注入する。 - 特許庁

To provide a solid state imaging device whose element pattern is finer, and to provide a manufacturing method of the solid state imaging device which employs a furnace annealing process with no nitriding process of a gate oxide film nor rapid thermal process in a main thermal treating process.例文帳に追加

素子パターンがより微細な固体撮像装置と、ゲート酸化膜の窒化処理と、主要熱処理工程における急速熱処理とを行うことなく、ファーネスアニール処理を採用する固体撮像装置の製造方法とを実現する。 - 特許庁

To provide a jig for heat treatment which has excellent high tempera ture strength without receiving the effect of the carburizing and the nitriding and excellent durability standing the heat shock at the rapid heating and the quenching and can reduce the heat capacity owing to the lightening without developing the heat deformation and can correspond to the saving of man-hour by applying a robot etc.例文帳に追加

浸炭や窒化の影響を受けることがなく、高温強度に優れ、急速加熱や焼入れ時の熱衝撃にも耐える優れた耐久性を有し、熱変形せず、軽量化に基づく熱容量の低減が可能となり、ロボットなどの適用による省人化にも対応可能な熱処理用治具を提供する。 - 特許庁